Verschiedene Reinheitsgrade von Tonerde erklärt
Einführung
Tonerde ist ein Grundstoff in vielen Industriezweigen. Tonerde gibt es in vielen Qualitäten. Jede Sorte erfüllt unterschiedliche Anforderungen. In diesem Artikel werden die Unterschiede in leicht verständlicher Sprache erläutert.
Technische Tonerde (Tonerde mit niedrigem Reinheitsgrad)
Technische Tonerde ist reiner. Sie wird für unkomplizierte Anwendungen verwendet. Sie ist zu 90-95 % rein. Seine Verunreinigungen stehen seiner Verwendung in Anwendungen wie feuerfesten Materialien nicht entgegen. Diese Qualität wird häufig in der Zement- und Grundkeramikindustrie verwendet. Der Reinheitsgrad muss in diesen Fällen nicht so streng sein.
Industrielle Tonerde (Tonerde mittlerer Reinheit)
Industrielle Tonerde hat einen mittleren Reinheitsgrad. Sie hat einen höheren Standard als die technische Qualität. Der Reinheitsgrad liegt in der Regel zwischen 95 % und 99 %. Diese Qualität wird von Industrien verwendet, die eine höhere Leistung benötigen. So wird dieses Material beispielsweise für die Katalyse chemischer Reaktionen und für Metallbeschichtungen verwendet. Es wird auch bei der Herstellung von Substraten in der Elektronik verwendet. Der höhere Reinheitsgrad sorgt für eine größere Stabilität der Leistung.
Hochreines Aluminiumoxid (Hochreines Aluminiumoxid)
Hochreine Tonerde, auch als High Purity Alumina bezeichnet, ist eine hochwertige Qualität. Sie ist zu mehr als 99,5 % rein. Es wird häufig in der Elektronik und in Spezialkeramiken verwendet. Man findet es z. B. in LED-Substraten und Laserkeramiken. Der niedrige Verunreinigungsgrad verleiht ihm die Stabilität, die bei solch heiklen Anwendungen erforderlich ist. Die meisten Forschungs- und Produktionslabors verwenden diese Sorte wegen ihrer Beständigkeit und Leistung.
Ultrahochreine Tonerde
Ultrahochreine Tonerde ist die höchste Qualitätsstufe. Die Anforderungen an diese Sorte sind extrem hoch. Der Reinheitsgrad kann 99,9 % oder mehr betragen und wird in Bereichen wie der Halbleiterherstellung und der optischen Technologie benötigt. Die sehr geringe Menge an Verunreinigungen, die es enthält, beeinträchtigt seine Leistung nicht. Es funktioniert auch dort gut, wo selbst kleinste Mengen von Verunreinigungen schädlich sein könnten. Hightech-Unternehmen und Hersteller hochwertiger Keramik verlassen sich darauf, wenn es um das Allerbeste geht.
Vergleichstabelle
Nachfolgend finden Sie eine einfache Vergleichstabelle der verschiedenen Tonerdesorten:
Sorte |
Typische Reinheit |
Anwendungen |
Gängige Beispiele |
Technische Tonerde |
90% - 95% |
Feuerfeste Materialien, Basiskeramik, Zement |
Grundlegende Industriekeramik, Zemente |
Industrielle Tonerde |
95% - 99% |
Katalysatoren, Schutzbeschichtungen, bestimmte Elektronik |
Chemische Katalysatoren, Trägermaterialien |
Hochreines Aluminiumoxid |
99,5% und mehr |
LED-Substrate, Laserkeramik, High-End-Keramik |
Moderne elektronische Komponenten, Laser |
Ultrahochreines Aluminiumoxid |
99,9% und höher |
Halbleiterherstellung, optische Komponenten |
Optik, Präzisionshalbleiter |
Weitere keramische Werkstoffe finden Sie unter Stanford Advanced Materials (SAM).
Schlussfolgerung
Wir haben den Unterschied zwischen den Reinheitsgraden von Aluminiumoxid beschrieben. Jeder Grad hat eine Nische. Technisches Aluminiumoxid eignet sich für normale industrielle Arbeiten, industrielles Aluminiumoxid wird verwendet, wenn eine mittlere Reinheit erforderlich ist. Hoher Reinheitsgrad ist für die Hochtechnologie. Ultrahochreines Aluminiumoxid ist für die anspruchsvollsten Anwendungen geeignet. Wählen Sie die Sorte je nach den spezifischen Anforderungen Ihres Projekts.
Häufig gestellte Fragen
F: Was ist die Hauptverwendung von technischem Aluminiumoxid?
F: Sie wird in feuerfesten Materialien und Zement verwendet, wo eine sehr hohe Reinheit nicht erforderlich ist.
F: Wofür wird Aluminiumoxid in industrieller Qualität verwendet?
F: Es wird in Katalysatoren und Schutzbeschichtungen verwendet, wo ein ausgewogenes Verhältnis zwischen Kosten und Reinheit erforderlich ist.
F: Warum wird ultrahochreines Aluminiumoxid in Halbleitern verwendet?
F: Sein geringer Verunreinigungsgrad gewährleistet die für die Halbleiterproduktion erforderliche Leistung und Zuverlässigkeit.