Zerstäubungstargets

Targets nach Branche und Anwendung auswählen

Halbleiter & Advanced Logic
Herausforderung: Ultrahohe Reinheit, Gleichmäßigkeit und Kornstrukturkontrolle für Barrieren- und Verbindungsschichten im Sub-nm-Bereich.
Ausgewählte Materialien: Tantal (Ta), Tantaldioxid (Ta₂O₅), Ruthenium (Ru), Titannitrid (TiN).

Flachbildschirme & OLED
Herausforderung: Großflächige, hochdichte Targets für gleichmäßige leitfähige Schichten auf großen Substraten.
Ausgewählte Materialien: Molybdän (Mo), ITO (kundenspezifisch), Aluminium (Al).

Photovoltaik & Dünnschicht-Solarzellen
Herausforderung: Kosteneffiziente, leistungsstarke Materialien für hocheffiziente Zellen.
Ausgewählte Materialien: Molybdän (Mo), Kupfer-Indium-Gallium-Selenid (CIGS - kundenspezifisch), Zinkoxid (ZnO:Al).

Optik & Photonik
Herausforderung: Präzise optische Konstanten (n, k) für Antireflex-, Filter- und Laserbeschichtungen.
Ausgewählte Materialien: Siliziumdioxid (SiO₂), Titandioxid (TiO₂), Magnesiumfluorid (MgF₂), Calciumfluorid (CaF₂).

Unser Leistungsspektrum: Mehr als Standardprodukte

SAM bietet umfassende Ingenieursdienstleistungen vom Material bis zum fertigen Target.

• Materialherstellung: Vakuumumschmelzen, Heißisostatisches Pressen (HIP), Plasmaspritzen.

• Präzisionsbearbeitung: CNC-Fertigung nach genauen Toleranzen. Planare, rotierende oder kundenspezifische Geometrien.

• Bonding-Dienstleistungen: Zuverlässiges Bonding auf Kupfer-, Aluminium- oder Edelstahl-Trägerplatten.

• Qualitätssicherung: Jedes Target wird mit einem Analysezertifikat ausgeliefert (GDMS, ICP-OES auf Anfrage).

Häufige Fragen zur Auswahl von Zerstäubungstargets

F: Worin liegt der Unterschied zwischen gebondeten und monolithischen (ungebondeten) Targets?
A: Gebondete Targets bieten eine bessere Wärmeableitung und sind bei wertvollen/spröden Materialien kosteneffizienter. Monolithische Targets ermöglichen eine maximale Materialausnutzung bei Basismetallen. Wir beraten Sie gerne basierend auf Ihrer Sputter-Anlage und Ihrem Prozess.

F: Welche Spezifikationen benötigen Sie für ein Angebot?
A: Bitte geben Sie an: 1) Material & Zusammensetzung, 2) Reinheit, 3) Abmessungen, 4) Target-Typ, 5) Bonding-Anforderungen, 6) Menge.

F: Können Sie Targets für ältere oder nicht-standardisierte Systeme fertigen?
A: Ja. Die kundenspezifische Fertigung für einzigartige Aufdampfanlagen ist eine unserer Kernkompetenzen. Senden Sie uns Ihre Zeichnungen zur Prüfung.

F: Welche Target-Formen bieten Sie an und wie wähle ich die richtige?
A: Wir fertigen alle Standardformen: Planar (für die meisten Magnetrons), Rotativ (für Hochdurchsatz-Beschichter), Scheiben (F&E) und Ringe. Die Wahl wird hauptsächlich durch Ihr Sputtersystem-Modell bestimmt. Für ältere oder kundenspezifische Systeme bieten wir auch Geometrie-Design-Service. Bitte halten Sie Ihre Gerätebezeichnung für eine Anfrage bereit.

Suchen Sie ein Material, das nicht aufgeführt ist? Wir stellen es wahrscheinlich trotzdem her. Kontaktieren Sie unser Technikteam für alle kundenspezifischen Anfragen.

Fordern Sie noch heute Ihr individuelles Angebot an!

Unsere Ingenieure helfen Ihnen gerne bei der Auswahl des optimalen Targets für Ihren Prozess.