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Stanford Advanced Materials
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Sputtertarget

Sputtertargets sind sowohl als Monoblock als auch in Verbundausführung erhältlich, mit Abmessungen und Konfigurationen bis zu 820 mm. Sie werden mit maßgeschneiderten Bearbeitungen wie Bohrungen, Gewinden, Fasen, Rillen und speziellen Rückseiten gefertigt. Diese Flexibilität macht sie sowohl mit älteren Sputtergeräten als auch mit modernen Verarbeitungsanlagen kompatibel, einschließlich Anwendungen in großflächigen Beschichtungen und Flip-Chip-Technologien. Wir bieten auch Forschungsgrößen sowie kundenspezifische Größen und Legierungszusammensetzungen an, um den individuellen Anforderungen unserer Kunden gerecht zu werden.

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