ST0058 Zink (Zn) Sputtering Target

Name: ST0058 Zinc (Zn) Sputtering Target
SKU: ST0058
Availability: InStock
Rating: 4.9 (166 reviews)

Katalog-Nr.	ST0058
Zusammensetzung	Zn
CAS-Nummer	7440-66-6
Reinheit	≥99% (99,99% / 99,999% verfügbar)
Formular	Discs, oder Sonderanfertigungen
Durchmesser	2", 3", 4", 5", 6", oder kundenspezifisch
Dicke	0,25", 0,125", oder kundenspezifisch
Art der Anleihe	Kupfer, oder kundenspezifisch
Synonyme	Zink Sputtering Target, Zn Target, hochreines Zink Target

Stanford Advanced Materials (SAM) liefert hochreine Zink (Zn) Sputtering Targets für Dünnschichtanwendungen, die zuverlässige leitfähige Schichten erfordern. Zink-Targets werden häufig bei der Herstellung von transparenten leitfähigen Oxiden (TCOs) verwendet, insbesondere für Anzeigetafeln, Photovoltaikzellen und optoelektronische Geräte. Unsere Zn-Targets werden im Vakuum geschmolzen und präzisionsbearbeitet, um eine feine Kornstruktur und eine relative Dichte von >99% zu erreichen, was eine gleichmäßige DC-Sputterleistung und eine gleichmäßige Schichtabscheidung unterstützt. Erhältlich in Standard-Scheibengeometrien oder kundenspezifischen Konfigurationen, mit Kupferbondoptionen für optimiertes Wärmemanagement.

ANFRAGE

Beschreibung

Spezifikation

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FAQ

F: Welchen Reinheitsgrad des Zink-Targets benötige ich für Solarzellenanwendungen?

A: Für die meisten photovoltaischen Anwendungen (CIGS, Perowskit, CdTe) empfehlen wir eine Reinheit von 99,99 % (4N) oder höher. Eine geringere Reinheit kann zu Verunreinigungen führen, die die Ladungsträgerbeweglichkeit beeinträchtigen und den Wirkungsgrad der Zellen verringern.

F: Was ist AZO und warum ist es wichtig?

A: AZO (aluminiumdotiertes Zinkoxid) ist ein transparentes leitfähiges Oxid, das durch Co-Sputtern von Zink mit Aluminium hergestellt wird. Es wird zunehmend als kostengünstigere Alternative zu ITO (Indium-Zinn-Oxid) in Displays und Solarzellen eingesetzt. Wenn Sie planen, AZO-Filme herzustellen, lassen Sie es uns wissen, und wir können Ihnen die richtige Zielkonfiguration empfehlen.

F: Oxidieren Zinkziele während der Lagerung?

A: Zink kann eine dünne Oxidschicht bilden, wenn es der Luft ausgesetzt wird. Deshalb vakuumversiegeln wir alle unsere Zink-Targets sofort nach der Reinigung. Bewahren Sie sie in der versiegelten Verpackung auf, bis sie einsatzbereit sind, und ziehen Sie ein kurzes Einbrennen vor dem Sputtern in Betracht, um jegliches Oberflächenoxid zu entfernen.

F: Welches Sputtering-Verfahren eignet sich am besten für Zink?

A: Zink ist leitfähig, daher funktioniert das DC-Sputtern gut. Für reine Zn-Schichten wird Gleichstrom empfohlen. Für reaktives Sputtern (zur Herstellung von ZnO oder AZO) wird in der Regel HF oder gepulster Gleichstrom mit Sauerstoffgas verwendet.

F: Können Sie eine Zielscheibe mit kontrollierter Korngröße liefern?

A: Ja, wir können die Korngröße während des Herstellungsprozesses kontrollieren. Eine feine Korngröße (<100 μm) wird für die meisten Sputtering-Anwendungen empfohlen, um eine gleichmäßige Erosion zu gewährleisten. Bitte geben Sie Ihre Anforderungen bei der Bestellung an.

F: Bieten Sie aluminiumdotierte Zinkoxid-Targets (AZO) an?

A: Ja, wir bieten AZO-Targets mit verschiedenen Dotierungskonzentrationen (typischerweise 1-3% Al₂O₃). Bitte kontaktieren Sie uns mit Ihren spezifischen Anforderungen.

LETZTE EMPFEHLUNG

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Werkstoff	Zink (Zn)
Reinheit	≥99% (99,99% / 99,999% auf Anfrage erhältlich)
CAS-Nummer	7440-66-6
Farbe/Erscheinungsbild	Bläulich-silbriges Grau
Schmelzpunkt	419.5°C
Dichte	7,14 g/cm³
Elektrischer spezifischer Widerstand	5,9 µΩ-cm (bei 20°C)
Sputter-Typ	DC, RF
Herstellungsverfahren	Vakuumschmelzen + Präzisionsbearbeitung
Korngröße	Kontrollierte, feinkörnige Struktur
Relative Dichte	>99%
Art der Bindung	Kupfer-Trägerplatte (Indium- oder Elastomer-Bindung möglich)
Standard Form	Scheibe
Standard-Durchmesser	2", 3", 4", 5", 6"
Bereich der Dicke	0,125", 0,25", oder kundenspezifisch
Verpackung	Vakuumversiegelt unter Reinraumbedingungen

Anwendungsbereich	Spezifische Verwendung
Display-Industrie	Transparente leitfähige Elektroden für LCD-, OLED- und Touchscreen-Panels
Solarenergie	TCO-Schichten für Dünnschichtsolarzellen (CIGS, CdTe, Perowskit)
Halbleiter	Barriereschichten, Elektrodenmaterialien und Dünnschichttransistoren
Optische Beschichtungen	Transparente leitfähige Beschichtungen, Antireflexionsschichten
Automobilindustrie	Korrosionsbeständige Beschichtungen für Präzisionsbauteile
Sensortechnik	Piezoelektrische ZnO-Schichten für Gassensoren und akustische Wellengeräte
Forschung und Entwicklung	2D-Materialforschung, Charakterisierung von Dünnschichten

Werkstoff	Zink (Zn)
Reinheit	≥99% (99,99% / 99,999% auf Anfrage erhältlich)
CAS-Nummer	7440-66-6
Farbe/Erscheinungsbild	Bläulich-silbriges Grau
Schmelzpunkt	419.5°C
Dichte	7,14 g/cm³
Elektrischer spezifischer Widerstand	5,9 µΩ-cm (bei 20°C)
Sputter-Typ	DC, RF
Herstellungsverfahren	Vakuumschmelzen + Präzisionsbearbeitung
Korngröße	Kontrollierte, feinkörnige Struktur
Relative Dichte	>99%
Art der Bindung	Kupfer-Trägerplatte (Indium- oder Elastomer-Bindung möglich)
Standard Form	Scheibe
Standard-Durchmesser	2", 3", 4", 5", 6"
Bereich der Dicke	0,125", 0,25", oder kundenspezifisch
Verpackung	Vakuumversiegelt unter Reinraumbedingungen

ST0058 Zink (Zn) Sputtering Target

Zink (Zn) Sputtering Target Beschreibung

Zink (Zn) Sputtering Target Spezifikation

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Zink (Zn) Sputtering Target Packing

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