ST0412 Aluminium-dotiertes Zinkoxid (AZO) Sputtering Target

Aluminium-dotiertes Zinkoxid (AZO) Sputtering Target Beschreibung

Das aluminiumdotierte Zinkoxid (AZO) Sputtering Target wurde für Präzision und Zuverlässigkeit bei fortschrittlichen Dünnschichtabscheidungsprozessen entwickelt. Dieses Target wird mit einer hohen Reinheit von ≥99% hergestellt und weist eine Zusammensetzung von ZnO:Al₂O₃ auf, um eine verbesserte elektrische Leitfähigkeit und optische Transparenz zu gewährleisten, die für Hochleistungsanwendungen erforderlich sind. Das Target ist in standardisierten Scheibenformen erhältlich oder kann nach Maß gefertigt werden, um spezifische Anwendungsanforderungen zu erfüllen. Es eignet sich ideal für Branchen, die bei der Halbleiterherstellung, in der Displaytechnologie und bei Photovoltaiksystemen eine überragende Materialleistung benötigen.

Aluminium-dotiertes Zinkoxid (AZO) Sputtering Target Anwendungen

- Dünnschichtabscheidung: Perfekt für die Herstellung hochwertiger Dünnschichten bei der Herstellung von Halbleitern und Anzeigetafeln.
- Photovoltaik: Zur Herstellung von transparenten leitfähigen Oxiden für Solarzellenanwendungen.
- Elektronische Geräte: Bietet eine verbesserte Leistung in optoelektronischen Geräten aufgrund seiner verfeinerten elektrischen und optischen Eigenschaften.
- Beschichtungsprozesse: Ideal für Sputtering-Prozesse in verschiedenen industriellen Beschichtungsanwendungen.

Aluminium-dotiertes Zinkoxid (AZO) Sputtering Target Packing

Unser Aluminium-dotiertes Zinkoxid (AZO) Sputtering Target wird sorgfältig verpackt, um seine hohe Reinheit und strukturelle Integrität während des Transports zu erhalten. Kundenspezifische Verpackungsoptionen sind verfügbar, um spezifische Versand- und Handhabungsanforderungen zu erfüllen.

Häufig gestellte Fragen

F: Was sind die Hauptanwendungen des AZO-Sputtertargets?
A: Es wird hauptsächlich in Dünnschichtabscheidungsprozessen für die Halbleiter-, Display- und Photovoltaikindustrie verwendet.

F: Welche Vorteile bietet die ZnO:Al₂O₃-Zusammensetzung für den Sputterprozess?
A: Die ZnO:Al₂O₃-Zusammensetzung verbessert die elektrische Leitfähigkeit und die optische Transparenz, die für Hochleistungs-Dünnschichtanwendungen entscheidend sind.

F: In welchen Formen ist das AZO-Sputtertarget erhältlich?
A: Das Target ist in Form von Standardscheiben erhältlich, kann aber auch kundenspezifisch angefertigt werden, um spezifischen Fertigungsanforderungen gerecht zu werden.

F: Warum ist ein Reinheitsgrad von ≥99% für dieses Produkt wichtig?
A: Ein hoher Reinheitsgrad gewährleistet eine gleichbleibende Leistung und minimiert Defekte während des Sputterprozesses, was zu einer hervorragenden Filmqualität führt.

F: Kann die Verpackung für das AZO-Sputter-Target individuell angepasst werden?
A: Ja, die Verpackung kann individuell angepasst werden, um einen optimalen Schutz und die Einhaltung der Versandanforderungen zu gewährleisten.