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Stanford Advanced Materials
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  • ITO0491 Indium-Zinn-Oxid (ITO) Sputtering-Targets

    • ITO0491 Indium-Zinn-Oxid (ITO) Sputtering-Targets

    Katalog-Nr. ITO0491
    Material 90% In2O3+10% SnO2 / 95% In2O3+5% SnO2
    Reinheit 99,99 %.
    CAS-Nummer 50926-11-9
    Dichte 7,1 g/cm3
    Schmelzpunkt 1565℃

    Das durch Magnetron- oder andere Sputtertechniken abgeschiedene Indium-Zinn-Oxid (ITO) -Target wird für ITO-beschichtete Substrate verwendet, darunter Elektroden für Flachbildschirme, Touchpanel-Kontakte, energiesparendes Auto- und Gebäudeglas, optoelektronische Geräte, Solarzellen usw. Stanford Advanced Materials bietet seinen Kunden hochwertige ITO-Targets mit unterschiedlichen Abmessungen.

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    ITO0491 Indium Tin Oxide (ITO) Sputtering Targets
    ITO0491 Indium Tin Oxide (ITO) Sputtering Targets
    ITO0491 Indium Tin Oxide (ITO) Sputtering Targets
    ITO0491 Indium Tin Oxide (ITO) Sputtering Targets
    Beschreibung
    Spezifikation

    LETZTE EMPFEHLUNG

    sc/1700790065-normal-indium-nitride-powder.png
    NR1506 (Abgesetzt) Indiumnitrid-Pulver (InN) (CAS-Nr. 25617-98-5)
    IN0480 Indium Ingot (In Ingot)
    IN0480 Indium-Barren (In-Barren)
    sc/1711020349-normal-vd0554.jpg
    VD0554 Indium (In) Verdampfungsmaterialien
    VD0623 Copper Indium (Cu/In) Evaporation Materials
    VD0623 Kupfer-Indium (Cu/In) Verdampfungsmaterialien
    VD0690 Indium Gallium Zinc Oxide (InGaZnOx) Evaporation Materials
    VD0690 Indium-Gallium-Zink-Oxid (InGaZnOx) Verdampfungsmaterialien
    VD0691 Indium Iron Oxide (InFe2O4) Evaporation Materials
    VD0691 Indium-Eisen-Oxid (InFe2O4) Verdampfungsmaterialien
    sc/1686907132-normal-VD0692-1.jpg
    VD0692 Indiumoxid (In2O3) Verdampfungsmaterialien
    VD0693 Indium Tin Oxide (ITO) Evaporation Materials
    VDI0693 Indium-Zinn-Oxid (ITO)-Aufdampfmaterialien
    sc/1614061941-normal-Indium Arsenide Powder.jpg
    IN1704 (Ausgelaufen) Indiumarsenid (InAs) Pulver (CAS-Nr.1303-11-3)

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