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Stanford Advanced Materials
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  • ITO0491 Indium-Zinn-Oxid (ITO) Sputtering-Targets

    • ITO0491 Indium-Zinn-Oxid (ITO) Sputtering-Targets

    Katalog-Nr. ITO0491
    Material 90% In2O3+10% SnO2 / 95% In2O3+5% SnO2
    Reinheit 99,99 %.
    CAS-Nummer 50926-11-9
    Dichte 7,1 g/cm3
    Schmelzpunkt 1565℃

    Das durch Magnetron- oder andere Sputtertechniken abgeschiedene Indium-Zinn-Oxid (ITO) -Target wird für ITO-beschichtete Substrate verwendet, darunter Elektroden für Flachbildschirme, Touchpanel-Kontakte, energiesparendes Auto- und Gebäudeglas, optoelektronische Geräte, Solarzellen usw. Stanford Advanced Materials bietet seinen Kunden hochwertige ITO-Targets mit unterschiedlichen Abmessungen.

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    LETZTE EMPFEHLUNG

    NR1506 (Abgesetzt) Indiumnitrid-Pulver (InN) (CAS-Nr. 25617-98-5)
    IN0480 Indium-Barren (In-Barren)
    VD0554 Indium (In) Verdampfungsmaterialien
    VD0623 Kupfer-Indium (Cu/In) Verdampfungsmaterialien
    VD0690 Indium-Gallium-Zink-Oxid (InGaZnOx) Verdampfungsmaterialien
    VD0691 Indium-Eisen-Oxid (InFe2O4) Verdampfungsmaterialien
    VD0692 Indiumoxid (In2O3) Verdampfungsmaterialien
    VDI0693 Indium-Zinn-Oxid (ITO)-Aufdampfmaterialien
    VDI0694 Indium-Zink-Oxid (IZO)-Aufdampfmaterialien

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