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ITO0491 Indium-Zinn-Oxid (ITO) Sputtering-Targets

Katalog-Nr. ITO0491
Material 90% In2O3+10% SnO2 / 95% In2O3+5% SnO2
Reinheit 99,99 %.
CAS-Nummer 50926-11-9
Dichte 7,1 g/cm3
Schmelzpunkt 1565℃

Das durch Magnetron- oder andere Sputtertechniken abgeschiedene Indium-Zinn-Oxid (ITO) -Target wird für ITO-beschichtete Substrate verwendet, darunter Elektroden für Flachbildschirme, Touchpanel-Kontakte, energiesparendes Auto- und Gebäudeglas, optoelektronische Geräte, Solarzellen usw. Stanford Advanced Materials bietet seinen Kunden hochwertige ITO-Targets mit unterschiedlichen Abmessungen.

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ITO0491 Indium Tin Oxide (ITO) Sputtering Targets
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Vereinigte Staaten

    Purity

    99.9%

    • 99.9%
    • 99.5%
    • 99.99%
    • 99.999%
    • Other
    Diameter

    2''

    • 2''
    • 3''
    • 4''
    • 5''
    • 6''
    • Other
    Thickness

    0.25''

    • 0.25''
    • 0.125''
    • All
    • Other
    Bonding

    Yes

    • Yes
    • No
    • Other
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