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PT3865 Platin-Diselenid-Film (PtSe2)

Katalog-Nr. PT3865
Material Quarz, Saphir, oder individuell
Abmessungen 10*10, 15*15, 20*20 mm, oder kundenspezifisch
Verfahren zur Herstellung Chemische Gasphasenabscheidung (CVD)

Wir bieten Platin-Diselenid-Filme auf verschiedenen Substraten an, wie z. B. Quarz, Saphir oder kundenspezifisch. Stanford Advanced Materials (SAM) hat reiche Erfahrung in der Herstellung und Lieferung von hochwertigen Platin-Diselenid-Filmen.

Verwandte Produkte: Nickel-Tellurid CVD-Film (NiTe2), Wolfram-Diselenid CVD-Film (WSe2), Bismut-Selenid CVD-Film (Bi2Se3), Zinn-Diselenid Saphir-Film (SnSe2)

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