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Stanford Advanced Materials
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NK3861 Nickel-Tellurid-CVD-Film (NiTe2)

Katalog-Nr. NK3861
Typ Einkristalline Körner
Material des Substrats SiO2/Si, Quarz, Saphir, Silizium-Wafer, PET, usw.
Größe 10*10, 15*15, 20*20 mm
Methode Chemische Gasphasenabscheidung (CVD)

Wir bieten Nickel-Tellurid-CVD-Filme auf verschiedenen Substraten an, wie SiO2/Si, Quarz, Saphir, Silizium-Wafer, PET usw. Stanford Advanced Materials (SAM) hat reiche Erfahrung in der Herstellung und Lieferung von hochwertigen Nickel-Tellurid-CVD-Filmen.

Ähnliche Produkte: Wolfram Diselenid CVD Film (WSe2), Bismut Selenid CVD Film (Bi2Se3), Zinn Diselenid Saphir Film (SnSe2)

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