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WM3862 CVD-Film aus Wolframdiselenid (WSe2)

Katalog-Nr. WM3862
Material SiO2/Si, Silizium-Wafer, PET, PI, ITO, FTO, Glas.
Abmessungen 10*10, 15*15, 20*20 mm, oder kundenspezifisch
Verfahren zur Herstellung Chemische Gasphasenabscheidung (CVD)

Wir bieten Wolframdiselenid-CVD-Schichten auf verschiedenen Substraten an, z. B.: SiO2/Si, Silizium-Wafer, PET, PI, ITO, FTO, Glas. Stanford Advanced Materials (SAM) hat reiche Erfahrung in der Herstellung und Lieferung von hochwertigen Wolframdiselenid-CVD-Filmen.

Ähnliche Produkte: Nickel-Tellurid CVD-Film (NiTe2), Bismut-Selenid CVD-Film (Bi2Se3), Zinn-Diselenid Saphir-Film (SnSe2)

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