Sphärisches Tantal-Pulver (Ta) Beschreibung
Sphärisches Tantalpulver (Ta) findet vielfältige Verwendung in der traditionellen und der Hightech-Industrie, z. B. beim Kaltgasspritzen, beim Plasmaspritzen von Rohstoffen, bei hochreinen Ziellegierungszusätzen, bei der SLM-Herstellung von chirurgischen Metallimplantaten, orthopädischen Prothesen und bei der additiven Herstellung von säure- und korrosionsbeständigen komplexen Abschirmteilen. Es zeichnet sich durch hohe Reinheit, einheitliche Partikelgröße, vollständige Oberflächenstruktur, leichte Dispersion, große spezifische Oberfläche und hohe Oberflächenaktivität aus. Tantalkondensatoren sind die am häufigsten verwendeten Kondensatorprodukte im Bereich der Militärelektronik. Die Größe elektronischer Produkte wird immer kleiner, und Tantalkondensatoren müssen sich in Richtung Miniaturisierung und hohe Kapazität entwickeln.
Sphärisches Tantalpulver (Ta) Spezifikationen
- Ta (50nm)
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Ta (%)
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Ti (%)
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W (%)
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Mo (%)
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Cr (%)
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Fe (%)
|
O (%)
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>99.9
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<0.001
|
<0.001
|
<0.001
|
<0.0001
|
<0.01
|
<0.8
|
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Morphologie des Pulvers
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Partikelgrößenverteilung (nm)
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Spezifische Oberfläche (m2/g)
|
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D10
|
D50
|
D90
|
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Sphärisch
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0-30
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50-60
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<300
|
≥10.0
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- Ta (100nm)
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Ta (%)
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Ti (%)
|
W (%)
|
Mo (%)
|
Cr (%)
|
Fe (%)
|
O (%)
|
|
>99.9
|
<0.001
|
<0.001
|
<0.001
|
<0.0001
|
<0.01
|
<0.5
|
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Morphologie des Pulvers
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Partikelgrößenverteilung (nm)
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Spezifische Oberfläche (m2/g)
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D10
|
D50
|
D90
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Sphärisch
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30-60
|
80-100
|
<1000
|
≥8.0
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- Ta (1-10um)
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Ta (%)
|
Ti(%)
|
W(%)
|
Mo (%)
|
Cr (%)
|
Fe (%)
|
O (%)
|
|
>99.9
|
<0.001
|
<0.001
|
<0.001
|
<0.0001
|
<0.01
|
<0.08
|
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Sphärizität (%)
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Partikelgrößenverteilung (um)
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Schüttdichte (g/cm3)
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D10
|
D50
|
D90
|
|
>94
|
>1
|
5±2
|
<10
|
≥10.5
|
- Ta (5-25um)
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Ta (%)
|
Ti (%)
|
W (%)
|
Mo (%)
|
Cr (%)
|
Fe (%)
|
O (%)
|
|
>99.9
|
<0.001
|
<0.001
|
<0.001
|
<0.0001
|
<0.01
|
<0.02
|
|
Sphärizität (%)
|
Partikelgrößenverteilung (um)
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Schüttdichte
(g/cm3)
|
Schüttdichte
(g/cm3)
|
Fließfähigkeit
(s/50g)
|
|
D10
|
D50
|
D90
|
|
>94
|
≥5
|
15±3
|
≤25
|
≥10.0
|
≥10.5
|
≤8.0
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- Ta (15-45um)
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Ta (%)
|
Ti (%)
|
W (%)
|
Mo (%)
|
Cr (%)
|
Fe (%)
|
O (%)
|
|
>99.9
|
<0.001
|
<0.001
|
<0.001
|
<0.0001
|
<0.01
|
≤0.01
|
|
Sphärizität (%)
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Partikelgrößenverteilung (um)
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Schüttdichte
(g/cm3)
|
Schüttdichte
(g/cm3)
|
Fließfähigkeit
(s/50g)
|
|
D10
|
D50
|
D90
|
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>94
|
>15
|
30±3
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<45
|
≥9.5
|
≥10.0
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≤6.0
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Sphärisches Tantal-Pulver (Ta) Anwendungen
Sphärisches Tantalpulver (Ta) hat vielfältige Anwendungen in traditionellen und Hightech-Industrien. Es dient als wichtiger Bestandteil fortschrittlicher Fertigungstechniken wie Kalt- und Plasmaspritzen und liefert Rohstoffe für diese Verfahren. Darüber hinaus spielt es eine wichtige Rolle als hochreiner Ziellegierungszusatz, der die Legierungseigenschaften für verschiedene Anwendungen verbessert.
Im Bereich der fortschrittlichen Fertigung ist dieses Pulver entscheidend für das selektive Laserschmelzen (SLM), das die Herstellung komplizierter chirurgischer Metallimplantate, einschließlich orthopädischer Prothesen, ermöglicht. Darüber hinaus wird es in der additiven Fertigung für die Herstellung säure- und korrosionsbeständiger komplexer Abschirmteile verwendet. Zusammenfassend lässt sich sagen, dass kugelförmiges Tantalpulver ein vielseitiges Material ist, das in fortschrittlichen Branchen wie dem Gesundheitswesen und der Werkstofftechnik eine wichtige Rolle spielt.
Sphärisches Tantal-Pulver (Ta) Verpackung
Unser sphärisches T antalpulver (Ta) wird während der Lagerung und des Transports sorgfältig behandelt, um die Qualität unseres Produkts in seinem ursprünglichen Zustand zu erhalten.
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