Vanadium Silicide Target (VSi2) Beschreibung
Vanadium-Silicid-Target (VSi2) weist eine Kombination wünschenswerter physikalischer und chemischer Eigenschaften auf, durch die es sich gut für Dünnschichtanwendungen eignet. Es hat einen hohen Schmelzpunkt von etwa 1920℃, der eine ausgezeichnete thermische Stabilität unter extremen Verarbeitungsbedingungen gewährleistet. VSi₂ weist auch eine gute elektrische Leitfähigkeit auf, was es für elektronische und Halbleitergeräte nützlich macht. Sein niedriger Diffusionskoeffizient und seine starke Grenzflächenbindung tragen zu seiner Zuverlässigkeit als Sperr- oder Kontaktschicht bei. Chemisch gesehen ist Vanadiumsilicid oxidations- und korrosionsbeständig und besitzt eine dichte, stabile Oberfläche, die an der Luft schützende Siliciumoxidschichten bilden kann. Die mechanische Härte und die strukturelle Integrität der Verbindung verbessern ihre Leistung während des Sputterns und in den entstehenden dünnen Schichten weiter.
Vanadium-Silizid-Target (VSi2) Spezifikation
Eigenschaften
Werkstoff
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VSi2
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Reinheit
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99.5%
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Dichte
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4,42 g/cm3
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Form
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Planare Scheibe
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*Dieoben genannten Produktinformationen basieren auf theoretischen Daten. Für spezifische Anforderungen und detaillierte Anfragen, kontaktieren Sie uns bitte.
Größe: Kundenspezifisch
Vanadium Silizid Target (VSi2) Anwendungen
Vanadiumsilicid (VSi₂) wird aufgrund seiner einzigartigen thermischen, elektrischen und chemischen Eigenschaften in verschiedenen Bereichen der Hochtechnologie eingesetzt. In der Halbleiterindustrie dient es als Schlüsselmaterial für die Herstellung von niederohmigen Kontakten und Diffusionsbarrieren in mikroelektronischen Geräten. Aufgrund seiner ausgezeichneten Leitfähigkeit und thermischen Stabilität wird es auch in Dünnschichttransistoren und Verbindungselementen eingesetzt. Im Bereich der Schutzbeschichtungen wird VSi₂ zur Abscheidung von hochtemperatur- und korrosionsbeständigen Schichten auf Bauteilen in der Luft- und Raumfahrt und in der Industrie verwendet. Darüber hinaus findet es Anwendung in thermoelektrischen Materialien und Solarzellenelektroden, wo es auf zuverlässige Leistung unter extremen Bedingungen ankommt.
Vanadium-Silizid-Target (VSi2) Verpackung
Unsere Produkte werden in kundenspezifischen Kartons verschiedener Größen verpackt, die auf den Abmessungen des Materials basieren. Kleine Artikel werden sicher in PP-Kartons verpackt, während größere Artikel in maßgefertigte Holzkisten gelegt werden. Wir sorgen für eine strikte Einhaltung der Verpackungsanpassung und die Verwendung geeigneter Polstermaterialien, um einen optimalen Schutz während des Transports zu gewährleisten.

Verpackung: Karton, Holzkiste, oder kundenspezifisch.
Herstellungsprozess
1. Kurzer Ablauf des Herstellungsprozesses

2. Prüfverfahren
- Analyse der chemischen Zusammensetzung - Verifiziert mit Techniken wie GDMS oder XRF, um die Einhaltung der Reinheitsanforderungen zu gewährleisten.
- Prüfung der mechanischen Eigenschaften - Umfasst Tests der Zugfestigkeit, Streckgrenze und Dehnung zur Bewertung der Materialleistung.
- Maßprüfung - Misst Dicke, Breite und Länge, um die Einhaltung der vorgegebenen Toleranzen zu gewährleisten.
- Prüfung der Oberflächenqualität - Überprüfung auf Defekte wie Kratzer, Risse oder Einschlüsse durch Sicht- und Ultraschallprüfung.
- Härteprüfung - Bestimmt die Materialhärte zur Bestätigung der Gleichmäßigkeit und mechanischen Zuverlässigkeit.
Häufig gestellte Fragen zu Vanadium-Silizid-Targets (VSi2)
Q1: Ist VSi₂ sowohl mit DC- als auch mit RF-Sputtersystemen kompatibel?
A1: Ja, Vanadium-Silizid-Targets sind sowohl mit DC- als auch mit RF-Sputtersystemen kompatibel, je nach Beschichtungsaufbau und gewünschten Schichteigenschaften.
Q2: Wie sollte ich das VSi₂-Target lagern und handhaben?
A2: VSi₂-Targets sollten in einer trockenen, kühlen Umgebung gelagert werden, fern von Feuchtigkeit und korrosiven Chemikalien. Verwenden Sie Handschuhe, um eine Verunreinigung der Sputteroberfläche zu vermeiden.
F3: Kann ich eine kundenspezifische Zusammensetzung oder dotierte Variante von VSi₂ anfordern?
A3: SAM kann auf Anfrage kundenspezifische Zusammensetzungen oder dotierte Varianten von Vanadiumsilicid liefern. Bitte kontaktieren Sie uns mit Ihren Spezifikationen für ein Angebot.
Leistungsvergleichstabelle mit Konkurrenzprodukten
Vanadiumsilicid-Target (VSi2) im Vergleich zu Konkurrenzmaterialien
Eigenschaft
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VSi₂-basierte Targets
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WSi₂-Target
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TaN-Target (Tantalnitrid)
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Chemische Formel
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VSi₂
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WSi₂
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TaN
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Anwendungen
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- Abscheidung von Dünnschichten
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- Dünnschichtige Abscheidung
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- Harte Beschichtungen
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- Halbleiterbauelemente
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- Mikroelektronik
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- Verschleißfeste Beschichtungen
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- Hochtemperaturelektronik
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- Verbindungselemente, Widerstände
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- Diffusionsbarrieren
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- Optische Geräte
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- Halbleiteranwendungen
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Schmelzpunkt
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~ 1850℃
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~ 3160℃
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~ 3000℃
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Dichte (g/cm³)
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~ 5.3
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~ 6.7
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~ 14.1
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Elektrische Leitfähigkeit
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Mäßig
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Niedrig
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Niedrig
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Thermische Leitfähigkeit
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Mäßig bis hoch
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Hoch
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Mäßig bis hoch
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Härte
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Mäßig bis hoch
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Hoch
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Sehr hoch
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Reaktivität
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Reagiert mit Sauerstoff bei hohen Temperaturen
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Stabil an der Luft
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Stabil an der Luft, reaktiv mit starken Säuren
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Form
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Üblicherweise in Sputtertargets und dünnen Schichten verwendet
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Üblich beim Sputtern von dünnen Schichten
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Verwendet für dünne Schichten und Beschichtungen
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Oxidationsbeständigkeit
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Mäßig (bildet eine schützende Oxidschicht)
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Hoch (bildet eine schützende Oxidschicht)
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Hoch (bildet eine stabile Oxidschicht)
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Verwandte Informationen
- Rohstoffe - Vanadium (V)
Vanadium ist ein silbrig-graues Übergangsmetall mit der Ordnungszahl 23, das für seine Festigkeit, Korrosionsbeständigkeit und die Fähigkeit zur Bildung stabiler Verbindungen bekannt ist. Es wird häufig in Stahllegierungen verwendet, um die Härte und Haltbarkeit zu verbessern. Vanadium spielt auch eine Rolle in der chemischen Katalyse und wird in modernen Werkstoffen wegen seiner Oxidationsbeständigkeit und thermischen Stabilität geschätzt. Es trägt zu Verbindungen mit erwünschten leitenden und strukturellen Eigenschaften in elektronischen Materialien bei.
- Rohstoffe - Silizium (Si)
Silizium ist ein Metalloid mit der Ordnungszahl 14 und ist das zweithäufigste Element in der Erdkruste. Es ist von grundlegender Bedeutung für die moderne Elektronik und dient als Grundstoff für die meisten Halbleiter und integrierten Schaltungen. Silizium hat hervorragende halbleitende Eigenschaften, ist thermisch stabil und geht starke Bindungen mit Sauerstoff ein, was es für Glas, Keramik und Solarzellenanwendungen unverzichtbar macht. Seine Vielseitigkeit und sein Reichtum haben es zu einem Eckpfeiler der Elektronikindustrie und der Materialwissenschaft gemacht.
Spezifikation
Eigenschaften
Werkstoff
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VSi2
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Reinheit
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99.5%
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Dichte
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4,42 g/cm3
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Form
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Planare Scheibe
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*Dieoben genannten Produktinformationen basieren auf theoretischen Daten. Für spezifische Anforderungen und detaillierte Anfragen, kontaktieren Sie uns bitte.
Größe: Kundenspezifisch