ST0001 Aluminium (Al) Sputtering Target

Aluminum (Al) Sputtering Target Beschreibung

Das Aluminium (Al) Sputtering Target ist ein qualitativ hochwertiges Produkt, das für Sputtering-Systeme entwickelt wurde, die in Elektronik-, Beschichtungs- und Dünnschichtabscheidungsprozessen eingesetzt werden. Es wird mit einer überragenden Reinheit (≥99%) und vielseitigen Formoptionen hergestellt und liefert auch unter harten Betriebsbedingungen eine gleichbleibende und zuverlässige Leistung. Seine Präzisionstechnik gewährleistet eine stabile und gleichmäßige Materialabscheidung und macht ihn zu einer unverzichtbaren Komponente für industrielle Hochleistungsanwendungen.

Aluminium (Al) Sputtering Target Anwendungen

- Sputtering-Beschichtungen: Ideal für den Einsatz in Abscheidungsprozessen für Halbleiter, Anzeigetafeln und die Herstellung von Solarzellen.
- Dünnschichtabscheidung: Liefert hochwertige Schichten für optische Komponenten und elektronische Geräte.
- Forschung und Entwicklung: Geeignet für Versuchsaufbauten in Materialwissenschaft und Technik.
- Kundenspezifische industrielle Anwendungen: Anpassbar an die besonderen Anforderungen verschiedener Herstellungsprozesse.

Aluminium (Al) Sputtering Target Packing

Unser Aluminium (Al) Sputtering Target wird sorgfältig verpackt, um maximalen Schutz während des Transports zu gewährleisten. Scheiben oder kundenspezifisch gefertigte Stücke werden sicher verpackt, um die Produktqualität und -integrität zu bewahren, wobei Optionen sowohl für Großbestellungen als auch für kleinere Mustersendungen verfügbar sind.

Häufig gestellte Fragen

F: Welche Formen sind für das Aluminium (Al) Sputtering Target erhältlich?
A: Das Target ist in Form von Standardscheiben erhältlich oder kann kundenspezifisch angefertigt werden, um spezifische Designanforderungen zu erfüllen.

F: Wie wird die hohe Reinheit (≥99%) des Aluminiums während der Produktion sichergestellt?
A: Wir halten uns während des gesamten Herstellungsprozesses an strenge Qualitätskontrollprotokolle, um sicherzustellen, dass der Reinheitsgrad bei oder über 99 % bleibt.

F: Welche Sputtering-Methoden können mit diesem Target verwendet werden?
A: Dieses Produkt wurde für das DC-Sputtern entwickelt und ist mit Standard-Sputtersystemen kompatibel, die in industriellen Anwendungen eingesetzt werden.

F: Kann das Aluminium (Al) Sputtering Target in der Größe angepasst werden?
A: Ja, das Target ist in kundenspezifischen Größen erhältlich, um verschiedenen Industrie- und Forschungsanforderungen gerecht zu werden.

F: In welchen Branchen wird das Aluminium (Al) Sputtering Target üblicherweise verwendet?
A: Es wird häufig in der Halbleiterherstellung, bei optischen Beschichtungen, in der Elektronikfertigung und in der modernen Materialforschung eingesetzt.