Nickel-Silicid-Verdampfungsmaterialien Beschreibung
Nickel-Silicid (NiSi2)-Aufdampfmaterial ist ein keramisches Silicid-Verdampfungsmaterial. Hochreine NiSi2-Verdampfungsmaterialien spielen eine große Rolle bei Abscheidungsprozessen, um eine hohe Qualität des abgeschiedenen Films zu gewährleisten.
Das von Stanford Advanced Materials angeboteneNickel-Silicid-Verdampfungsmaterial ist ein Silicid-Keramik-Verdampfungsmaterial mit der chemischen Formel NiSi2. Hochreine NiSi2-Verdampfungsmaterialien spielen eine wichtige Rolle bei Abscheidungsprozessen und gewährleisten die Herstellung hochwertiger abgeschiedener Schichten. Stanford Advanced Materials (SAM) zeichnet sich durch die Herstellung von Aufdampfmaterialien mit einem Reinheitsgrad von bis zu 99,9995% aus und nutzt strenge Qualitätssicherungsprozesse, um eine einwandfreie Produktzuverlässigkeit zu gewährleisten.
Nickel-Silizid-Aufdampfmaterialien Spezifikation
Material Typ |
Nickel-Silicid |
Symbol |
NiSi2 |
Schmelzpunkt |
1.255 °C (2.291 °F; 1.528 K) |
Dichte |
7,40 g/cm3 |
Reinheit |
99.9% |
Form |
Pulver/Granulat/Sonderanfertigung |
Nickel-Silicid-Verdampfungsmaterialien Anwendung
Nickelsilicid-Aufdampfmaterialien finden breite Anwendung in Abscheidungsprozessen, einschließlich der Halbleiterabscheidung, der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) und der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD). Sie werden vor allem in der Optik eingesetzt, wo sie Verschleißschutz und dekorative Beschichtungen bieten und einen Beitrag zur Displaytechnologie leisten.
Verpackung von Nickel-Silicid-Aufdampfmaterialien
Um eine rationelle Identifizierung und Qualitätskontrolle zu gewährleisten, werden die Nickel-Silicid-Aufdampfmaterialien sorgfältig etikettiert und mit einem Außenetikett versehen. Wir lassen äußerste Sorgfalt walten, um mögliche Schäden während der Lagerung oder des Transports zu vermeiden.