ST0197 Titanium Dioxide (TiO2) Sputtering Target

Name: ST0197 Titanium Dioxide (TiO2) Sputtering Target
SKU: ST0197
Availability: InStock
Rating: 4.9 (166 reviews)

Katalog-Nr.	ST0197
Zusammensetzung	TiO₂
CAS-Nummer	13463-67-7
Reinheit	99,5% / 99,9% / 99,99% (anpassbar)
Formular	Discs, oder Sonderanfertigungen
Durchmesser	2", 3", 4", 5", 6", oder kundenspezifisch
Dicke	0,25", 0,125", oder kundenspezifisch
Art der Anleihe	Kupfer, oder kundenspezifisch
Synonyme	Titanium Dioxide Sputtering Target, TiO2 Target

Titanium Dioxide (TiO2) Sputtering Target ist in Reinheitsgraden von 99,5% bis 99,99% erhältlich, mit Rutil- oder Anatas-Kristallphasenoptionen, um Ihre spezifischen Dünnschichtanforderungen zu erfüllen. Unsere Targets werden im Heißpressverfahren hergestellt, um eine hohe Dichte und feine Korngröße für eine stabile, gleichmäßige Sputterleistung zu erreichen.

ANFRAGE

Beschreibung

Spezifikation

SDS

Bewertungen

FAQ

F: Welche Reinheitsgrade sind für das TiO2-Sputtertarget erhältlich?

A: Wir bieten mehrere Reinheitsgrade an, um verschiedenen Anwendungsanforderungen gerecht zu werden: 99,5 % für allgemeine industrielle Anwendungen, 99,9 % für elektronische Bauteile und 99,99 % für Halbleiter und optische Beschichtungen der Spitzenklasse. Kundenspezifische Reinheitsgrade sind auf Anfrage ebenfalls erhältlich.

F: Welche Sputtering-Methoden sind mit diesem Target anwendbar?

A: Das Target ist sowohl mit RF- als auch mit RF-R-Sputtertechniken kompatibel und bietet Flexibilität bei der Dünnschichtabscheidung.

F: Ist es möglich, die Scheibe in individuellen Formen und Größen zu bestellen?

A: Ja, das Target ist sowohl in Form von Standardscheiben als auch in maßgeschneiderten Formen erhältlich, die auf spezifische industrielle Anforderungen zugeschnitten sind.

F: Wie wirkt sich der hohe Schmelzpunkt auf die Leistung der Zielscheibe aus?

A: Der hohe Schmelzpunkt von 1843℃ sorgt für thermische Stabilität beim Hochleistungssputtern, wodurch das Risiko einer Verformung verringert und die Lebensdauer des Targets verlängert wird.

F: Welche Lagerbedingungen werden empfohlen, um die Qualität des Produkts zu erhalten?

A: Es wird empfohlen, das Target in einer kühlen, trockenen Umgebung zu lagern, idealerweise in der vakuumversiegelten Verpackung, um eine Kontamination zu vermeiden und die hohe Reinheit zu bewahren.

LETZTE EMPFEHLUNG

ST0001 Aluminium (Al) Sputtering Target

ST0003 Barium (Ba) Sputtering Target

ST0005 Bor (B) Sputtering Target

ST0006 Kadmium (Cd) Sputtering Target

https://www.samaterials.com/images/sc/1768529895-normal-ST0007.jpg

ST0007 Kalzium (Ca) Sputtering Target

ST0009 Chrom (Cr) Sputtering Target

ST0010 Kobalt (Co) Sputtering Target

ST0011 Kupfer (Cu) Sputtering Target

EIN ANGEBOT ANFORDERN

Senden Sie uns noch heute eine Anfrage, um mehr zu erfahren und die aktuellen Preise zu erhalten. Vielen Dank!

* Ihr Name

* Ihre E-Mail

Für eine schnelle Bearbeitung verwenden Sie bitte Ihre Firmen-E-Mail-Adresse.

* Produkt Name

* Ihr Telefon

* Land

Deutschland

Purity

Diameter

Thickness

Bonding

Kommentare

Ich möchte mich in die Mailingliste eintragen, um Updates von Stanford Advanced Materials zu erhalten.

Legen Sie Zeichnungen bei:

Dateien hier ablegen oder

* Code prüfen

Accepted file types: PDF, png, jpg, jpeg. Upload multiple files at once; each file must be under 2MB.

Parameter	Wert
Reinheit	99,5% / 99,9% / 99,99% (anpassbar)
Kristallphase	Rutil (Standard), Anatas (verfügbar)
Theoretische Dichte	4,23 g/cm³ (Rutil)
Tatsächliche Dichte	≥ 4,2 g/cm³ (≥ 99% der theoretischen)
Korngröße	≤ 10 µm
Form	Scheibe, rechteckig, oder kundenspezifisch
Durchmesser	2", 3", 4", 5", 6" (bis zu 12" erhältlich)
Dicke	0,125", 0,25" (bis zu 0,5" erhältlich)
Oberflächengüte	Geschliffen, Ra ≤ 1,6 µm
Bindung	Indium-Bonden auf Kupfer-Trägerplatte (Standard)
Sputtering-Methode	RF, DC, oder gepulster DC

Parameter	Spezifikation
Werkstoff	Titaniumdioxid
Symbol	TiO₂
Farbe/Erscheinungsbild	Weiß, undurchsichtig
Schmelzpunkt	1843℃
Dichte	4,23 g/cm³
Sputtern	RF, RF-R
Art der Bindung	Indium, Elastomer
Verfügbare Größen	Kundenspezifisch

ST0197 Titanium Dioxide (TiO2) Sputtering Target

Titanium Dioxide (TiO2) Sputtering Target Beschreibung

Titanium Dioxide (TiO2) Sputtering Target Spezifikationen

Titanium Dioxide (TiO2) Sputtering Target Anwendungen

Titanium Dioxide (TiO2) Sputtering Target Packing

Spezifikation

SDS

SICHERHEITSDATENBLATT

Fall

KUNDENBEWERTUNGEN

FAQ