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ST11192 Indium-Zinn-Oxid-Drehscheibe, ITO-Zielscheibe

Katalog-Nr. ST11192
Zusammensetzung In2O3, SnO2
Reinheit ≥99,99%, oder kundenspezifisch
Formular Ziel
Formular Röhrenförmig
Abmessungen Kundenspezifisch

Das Indium-Zinn-Oxid-Rotations-Target (ITO-Target) wird unter Verwendung einer kontrollierten Mischung von Indium- und Zinnoxiden hergestellt, um eine gleichmäßige Sputterleistung zu gewährleisten. Stanford Advanced Materials (SAM) führt strenge Qualitätsprüfungen durch, einschließlich spektroskopischer Analysen und routinemäßiger Materialhomogenitätsprüfungen. Das Verfahren zeichnet sich durch Reproduzierbarkeit und strenge Kontrolle der Zusammensetzung aus, um die für Halbleiter- und optoelektronische Anwendungen erforderliche präzise Schichtabscheidung zu unterstützen.

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FAQ

Welche Rolle spielt das Rotationsdesign für die Sputterleistung?

Das Rotationsdesign minimiert die örtliche Erwärmung und die Targeterosion, indem es einen gleichmäßigen Materialverbrauch fördert. Dies sorgt für stabile Abscheideraten und eine verbesserte Schichtgleichmäßigkeit, was bei Anwendungen wie der Herstellung von Displays und Solarzellen von entscheidender Bedeutung ist.

Wie wird die Materialzusammensetzung während der Produktion überprüft?

Die Zusammensetzung wird durch spektrometrische Verfahren und chemische Analysen von Charge zu Charge überprüft. Durch diese Prüfung werden Abweichungen im Indium-Zinn-Verhältnis minimiert und gleichbleibende Targeteigenschaften unter den Bedingungen des Hochleistungssputterns sichergestellt.

Können die kundenspezifischen Abmessungen die Kompatibilität der Installation beeinträchtigen?

Ja, die kundenspezifischen Abmessungen ermöglichen die Anpassung an verschiedene Sputtering-Systeme. Die Kunden sollten ihre Anlagenanforderungen angeben, um die Kompatibilität mit den Beschichtungskammern zu gewährleisten und die Prozesskonsistenz zu erhalten. Für weitere Details kontaktieren Sie uns bitte.

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