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ST6587 Tantal-Niob-Target (TaNb-Target)

Katalog-Nr. ST6587
Material Ta, Nb
Reinheit 99.95%
Formular Planare Scheibe

DasTantal-Niob-Target (TaNb-Target) von Stanford Advanced Materials ist ein haltbares und leistungsstarkes Sputtermaterial, das die Korrosionsbeständigkeit und den hohen Schmelzpunkt von Tantal mit der Festigkeit und den supraleitenden Eigenschaften von Niob verbindet. Es ist ideal für die fortschrittliche Dünnschichtabscheidung in der Elektronik und der Luft- und Raumfahrt.

Verwandte Produkte: Tantal-Sputtering-Target, Ta, Tantal-Aluminium-Sputtering-Target, Ta/Al, Niob-Sputtering-Target, Nb, Lithium-Niobat-Sputtering-Target, LiNbO3

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