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ST6573 Nickel-Kupfer-Titan-Target (NiCuTi-Target)

Katalog-Nr. ST6573
Chemische Zusammensetzung Ni, Cu, Ti
Reinheit 99.95%, 99.99%
Formular Planare Scheibe

Stanford Advanced Materials (SAM) bietet hochreine Nickel-Kupfer-Titan-Sputtertargets (NiCuTi-Targets) an, die für PVD-Prozesse (Physical Vapor Deposition) in der Halbleiterindustrie, für optische Beschichtungen und für andere hochentwickelte Industrien entwickelt wurden. Sie vereinen die Korrosionsbeständigkeit von Nickel, die hohe elektrische Leitfähigkeit von Kupfer und die leichte Festigkeit von Titan und erfüllen die Anforderungen der Präzisions-Dünnschichtabscheidung. Sie sind ISO 9001-zertifiziert und bieten Logistik und technischen Support nach weltweitem Standard.

Verwandte Produkte: Nickel Sputtering Target, Ni, Nickel-Kobalt Sputtering Target, Ni-Co, Kupfer Sputtering Target, Cu, Titan Sputtering Target, Ti, Titanium Dioxide Sputtering Target, TiO2

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