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ST6572 Nickel-Platin-Target (NiPt-Target)

Katalog-Nr. ST6572
Reinheit 99.9%, 99.95%
Formular Planare Scheibe
Element Symbol Ni, Pt
Schmelzpunkt 1400-1650 °C

Stanford Advanced Materials (SAM) bietet hochreine Sputtertargets aus einer Nickel-Platin-Legierung (NiPt-Targets) an, die für die physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) in den Bereichen Halbleiter, optische Beschichtungen und Wissenschaft entwickelt wurden. Sie kombinieren die hohe elektrische Leitfähigkeit von Nickel mit der Korrosionsbeständigkeit von Platin und sind in kundenspezifischen Größen und Reinheiten (≥99,95 %) für die präzise Dünnschichtabscheidung erhältlich.

Verwandte Produkte: Nickel Sputtering Target, Ni, Platin Sputtering Target, Pt, Nickel-Kobalt Sputtering Target, Ni-Co, Platin-Iridium Sputtering Target, Pt-Ir

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