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Eingestellt (Eingestellt) ST6553 Erbium-Planar-Target

Katalog-Nr. ST6553
CAS-Nummer Er
Material 7440-52-0
Abmessungen Kundenspezifisch
Dichte 8,795 g/cm3
Reinheit 99.9%

Stanford Advanced Materials (SAM) bietet hochreine Erbium Planar Targets für die Präzisions-Dünnschichtabscheidung an. Diese Targets mit einer Reinheit von 99,9-99,99 % und anpassbaren Abmessungen weisen optimierte Kornstrukturen für eine gleichmäßige Sputterleistung auf. Unterstützt durch strenge Qualitätskontrollen, Inertgasverpackungen und globale Logistik gewährleistet SAM zuverlässige Materiallösungen für Spitzenforschung und industrielle Innovationen.

Andere Formen: Erbium Sputtering Target

Verwandte Produkte: Erbium-Fluorid Sputtering Target, Erbium-Oxid Sputtering Target

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