ST1011 Chromsilicid-Sputtertarget, Cr3Si

Chromsilicid-Sputtertarget Beschreibung

Das Chromsilizid-Sputtertarget, Cr3Si, wurde für Präzision und hohe Leistung in fortschrittlichen Abscheidungsprozessen entwickelt. Hergestellt unter strengen Qualitätskontrollen, bietet dieses Target eine konsistente Materialintegrität für Anwendungen, die eine überlegene Dünnschichtabscheidung erfordern. Seine anpassbaren Formen, wie z. B. Scheiben oder maßgeschneiderte Formate, gewährleisten Vielseitigkeit in einer Reihe von industriellen Anwendungen. Die einzigartige Formulierung des Produkts, die durch eine Indiumbindung verbessert wird, unterstützt die zuverlässige Leistung in anspruchsvollen Anwendungen der Mikroelektronik und Oberflächenbehandlung.

Anwendungen für Chromsilicid-Sputter-Targets

- Dünnschichtabscheidung: Ideal für Anwendungen bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen und in der Mikroelektronik.
- Photovoltaik: Für die Herstellung von hocheffizienten Solarzellen, die eine präzise Materialkonsistenz erfordern.
- Mikroelektronik: Unterstützt die Abscheidung leitfähiger Schichten bei der Herstellung moderner Schaltkreise.
- Oberflächenbeschichtungen: Bietet eine gleichmäßige Beschichtungsleistung bei schützenden und dekorativen Anwendungen.

Chromsilicid-Sputter-Target-Packung

Unser Chromsilicid-Sputtering-Target wird sorgfältig verpackt, um die Produktintegrität während der Lagerung und des Transports zu gewährleisten.
Kundenspezifische Verpackungsoptionen sind verfügbar, um den spezifischen Anforderungen der Industrie gerecht zu werden.

Häufig gestellte Fragen

F: Was sind die Hauptanwendungen eines Chromsilicid-Sputtertargets?
A: Es wird in erster Linie für die Abscheidung von Dünnschichten in der Halbleiterherstellung, Photovoltaik und für Oberflächenbeschichtungen verwendet.

F: Wie kann ich die Form des Sputtertargets anpassen?
A: Die Targets können als Standardscheiben oder als kundenspezifische Formen entsprechend den spezifischen industriellen Anforderungen hergestellt werden.

F: Was bedeutet ein Reinheitsgrad von ≥99% für die Produktleistung?
A: Ein Reinheitsgrad von ≥99% gewährleistet eine hohe Zuverlässigkeit und gleichbleibende Leistung, was für industrielle Präzisionsanwendungen von entscheidender Bedeutung ist.

F: Welche Bedeutung hat die Indiumbindung in diesem Target?
A: Die Indiumbindung trägt zur Verbesserung der Haftung und der Gesamtleistung des Targets während des Sputterprozesses bei.

F: Gibt es besondere Lagerungsanforderungen für das Chromsilizid-Sputter-Target?
A: Es wird empfohlen, das Target in einer trockenen, stabilen Umgebung unter Verwendung der mitgelieferten kundenspezifischen Verpackung zu lagern, um seine Qualität und Leistung zu erhalten.