ST1009 Kadmium-Zink-Sulfid-Sputtering-Target, ZnS-CdS

Cadmium-Zink-Sulfid-Sputtering-Target, ZnS-CdS Beschreibung

Das Cadmium-Zink-Sulfid-Sputtering-Target, ZnS-CdS, wird mit Schwerpunkt auf hoher Reinheit und präziser Zusammensetzung hergestellt, um eine zuverlässige Leistung bei der Sputtering-Abscheidung zu gewährleisten. Es wurde für Anwendungen entwickelt, die qualitativ hochwertige Dünnschichten erfordern, und ist in Standard-Scheibenform oder in kundenspezifischen Konfigurationen erhältlich, die den spezifischen Herstellungsanforderungen entsprechen. Aufgrund seiner gleichbleibenden Materialeigenschaften eignet es sich ideal für fortschrittliche optische Beschichtungen, die Halbleiterherstellung und die Materialforschung.

Cadmium-Zink-Sulfid Sputtering Target, ZnS-CdS Anwendungen

- Herstellung von Halbleiterbauelementenund fortschrittliche Sputtering-Prozesse.

- Dünnschichtabscheidungfür optische Beschichtungen in Displays, Solarzellen und Sensoren.

- Forschungund Entwicklung in der Materialwissenschaft.

- Anwendungen, die eine präzise und gleichmäßige Schichtabscheidung erfordern.

Cadmium-Zink-Sulfid Sputtering Target, ZnS-CdS Packung

Unser Cadmium-Zink-Sulfid-Sputtering-Target wird sorgfältig verpackt, um seine hohe Reinheit und Unversehrtheit während der Lagerung und des Transports zu gewährleisten. Es sind kundenspezifische Verpackungsoptionen erhältlich, um die spezifischen Anforderungen verschiedener industrieller Anwendungen zu erfüllen.

Häufig gestellte Fragen

F: In welchen Branchen wird das Cadmium-Zink-Sulfid-Sputtering-Target, ZnS-CdS, üblicherweise verwendet?
A: Es wird häufig in der Halbleiterherstellung, für optische Beschichtungen, Sensoren und in der Materialforschung verwendet.

F: Wie wird die hohe Reinheit (≥99%) des Targets erhalten?
A: Das Target wird mit Hilfe fortschrittlicher Verarbeitungstechniken hergestellt und einer strengen Qualitätskontrolle unterzogen, um einen hohen Reinheitsgrad zu gewährleisten und zu erhalten.

F: Kann die Form des Sputtertargets angepasst werden?
A: Ja, die Standardform ist eine Scheibe, aber das Produkt kann auch kundenspezifisch angefertigt werden, um spezifische Anwendungsanforderungen zu erfüllen.

F: Welche Vorteile bietet die Verwendung von CdS-ZnS-Targets in Sputtering-Prozessen?
A: Sie bieten eine hervorragende Gleichmäßigkeit, eine hohe Abscheidungsqualität und eine zuverlässige Leistung auch in anspruchsvollen Umgebungen, was für Hightech- und Präzisionsanwendungen unerlässlich ist.

F: Gibt es besondere Anforderungen an die Lagerung oder Handhabung dieses Produkts?
A: Die Targets sollten in einer sauberen, trockenen Umgebung gelagert und sorgfältig gehandhabt werden, um jegliche Verunreinigung vor der Verwendung in Sputterprozessen zu vermeiden.