ST1007 Zinkoxid dotiert mit Magnesium Sputtering Target, ZnMgO

Zinkoxid dotiert mit Magnesium Sputtering Target Beschreibung

Das mit Magnesium dotierte Zinkoxid-Sputtertarget, ZnMgO, ist ein Hochleistungsmaterial, das für fortschrittliche Sputtering-Anwendungen entwickelt wurde. Es wird mit Präzision hergestellt und bietet eine außergewöhnliche Reinheit (≥99%) und anpassbare Formen, um den spezifischen Anforderungen verschiedener Abscheidungssysteme gerecht zu werden. Seine einzigartige Zusammensetzung, die durch die Magnesiumdotierung verbessert wird, trägt dazu bei, die elektrischen und optischen Eigenschaften für eine verbesserte Dünnschichtqualität anzupassen. Dieses Produkt wurde entwickelt, um in anspruchsvollen industriellen Umgebungen eine gleichbleibende und zuverlässige Leistung zu liefern.

Zinkoxid dotiert mit Magnesium Sputtering Target Anwendungen

- Sputtering-Abscheidung: Ideal für die Abscheidung gleichmäßiger Dünnschichten in der elektronischen Halbleiter- und optischen Industrie.
- Oberflächentechnik: Wird für Beschichtungsanwendungen verwendet, die präzise, hochwertige Oberflächen erfordern.
- Forschung und Entwicklung: Geeignet für Labors, die fortschrittliche Materialeigenschaften und innovative Sputtertechniken erforschen.
- Industrielle Fertigung: Wird bei der Herstellung von Komponenten eingesetzt, die eine hohe Haltbarkeit und optimierte Leistung erfordern.

Zinkoxid dotiert mit Magnesium Sputtering Target Verpackung

Unser Produkt wird sorgfältig verpackt, um eine optimale Konservierung während Lagerung und Transport zu gewährleisten.
- Je nach Kundenwunsch sind vakuumversiegelte oder kundenspezifische Verpackungsoptionen erhältlich.

Häufig gestellte Fragen

F: Wofür wird das mit Magnesium dotierte Zinkoxid-Sputter-Target, ZnMgO, hauptsächlich verwendet?
A: Es wird hauptsächlich in Sputtering-Beschichtungsprozessen verwendet, um hochwertige dünne Schichten für elektronische, optische und oberflächentechnische Anwendungen herzustellen.

F: Wie wirkt sich die Magnesiumdotierung auf die Eigenschaften von Zinkoxid aus?
A: Die Magnesiumdotierung kann die elektrischen und optischen Eigenschaften von Zinkoxid verändern, wodurch es besonders für transparente, leitfähige Anwendungen geeignet ist und die Gleichmäßigkeit der Schichten verbessert.

F: In welchen Formen ist dieses Produkt erhältlich?
A: Das Produkt ist in Scheibenform erhältlich oder kann je nach den spezifischen Anforderungen des Kunden maßgeschneidert hergestellt werden.

F: Welchen Reinheitsgrad weist dieses Produkt auf?
A: Das mit Magnesium dotierte Zinkoxid Sputtering Target, ZnMgO, hat einen Reinheitsgrad von ≥99%.

F: Können die verfügbaren Größen individuell angepasst werden?
A: Ja, die verfügbaren Größen sind vollständig anpassbar, um den Anforderungen verschiedener Sputtering-Systeme und -Anwendungen gerecht zu werden.