(Eingestellt) ST1002 Samarium-Nickel-Oxid-Zerstäubungstarget, SmNiO3

Samarium-Nickel-Oxid-Sputter-Target Beschreibung

Das Samarium-Nickeloxid-Sputter-Target (SmNiO3) ist ein hochentwickeltes Material, das für modernste Dünnschichtabscheidungsprozesse entwickelt wurde. Mit einer Reinheit von ≥99% hergestellt, bietet dieses Target eine einheitliche Zusammensetzung und zuverlässige Leistung, wodurch es ideal für Halbleiter-, Optik- und Sensoranwendungen ist. Erhältlich in Standard-Scheibenform oder als kundenspezifisches Produkt, erfüllt es die unterschiedlichsten industriellen Anforderungen an Präzision und Effizienz. Seine einzigartige Zusammensetzung gewährleistet Stabilität unter Sputtering-Bedingungen und sorgt für eine gleichmäßige und hochwertige Filmbildung.

Anwendungen für Samarium-Nickel-Oxid-Sputter-Targets

- Dünnschichtabscheidung: Optimiert für Halbleiter- und optische Beschichtungsprozesse.
- Mikroelektronik: Unverzichtbar für die Herstellung von Hochleistungskomponenten in Mikrochips und Sensoren.
- Display-Technologie: Wird für die Herstellung fortschrittlicher Anzeigetafeln mit präzisen elektrischen Eigenschaften verwendet.
- Sensoranwendungen: Unterstützt die Herstellung von Sensoren, die stabile und zuverlässige Dünnschichten erfordern.

Samarium-Nickel-Oxid-Sputter-Target-Packung

Unser Samarium-Nickel-Oxid-Sputter-Target wird sorgfältig verpackt, um seine Qualität und Reinheit zu erhalten. Die Standardverpackung besteht aus vakuumversiegelten Behältern, wobei auf Anfrage kundenspezifische Gewichts- und Größenoptionen erhältlich sind, um die Produktintegrität während des Transports und der Lagerung zu gewährleisten.

Häufig gestellte Fragen

F: Wie hoch ist der Reinheitsgrad des SmNiO3-Targets?
A: Das Samarium-Nickel-Oxid-Sputter-Target wird mit einem Reinheitsgrad von ≥99% hergestellt.

F: In welchen Formen ist dieses Sputtertarget erhältlich?
A: Das Target ist in Standard-Scheibenformen erhältlich oder kann nach Maß gefertigt werden, um spezifischen Anwendungsanforderungen zu entsprechen.

F: Welche Branchen können von der Verwendung dieses Sputtertargets profitieren?
A: Branchen wie die Halbleiterherstellung, optische Beschichtungen, Mikroelektronik und Sensorherstellung können von diesem Hochleistungstarget profitieren.

F: Wie wirkt sich die Zusammensetzung des Targets auf seine Leistung bei der Dünnschichtabscheidung aus?
A: Die einheitliche Zusammensetzung von SmNiO₃ verbessert die Konsistenz und Qualität der Dünnschichten und gewährleistet eine zuverlässige Leistung unter Sputterbedingungen.

F: Können die Verpackungsoptionen an die spezifischen Logistikanforderungen angepasst werden?
A: Ja, kundenspezifische Verpackungsoptionen sind verfügbar, um die Unversehrtheit des Produkts während der Lagerung und des Transports auf der Grundlage Ihrer spezifischen Anforderungen zu gewährleisten.