ST0999 Nickel-Eisen-Sputtertarget, Ni-Fe

Nickel-Eisen-Sputtering-Target Beschreibung

Das Nickel-Eisen-Sputter-Target, Ni-Fe, wurde für fortschrittliche Anwendungen bei der Vakuumabscheidung und der Herstellung von Dünnschichten entwickelt. Dieses unter strengen Qualitätskontrollmaßnahmen hergestellte Target bietet eine außergewöhnliche Leistung bei Sputterprozessen und gewährleistet eine präzise Schichtgleichmäßigkeit und Abscheidungskonsistenz. Es eignet sich besonders für Anwendungen, die eine hohe Reinheit und Zuverlässigkeit erfordern, und ist damit die ideale Wahl für die Halbleiter-, Photovoltaik- und Mikroelektronikindustrie. Die Einbindung einer Indiumbindung verbessert die Haftung, was zu einer längeren Lebensdauer des Targets in anspruchsvollen Betriebsumgebungen führt.

Anwendungen für Nickel-Eisen-Sputter-Targets

- Dünnfilm-Beschichtungen: Hochwertige Schichten für optische, schützende und elektronische Anwendungen.
- Mikroelektronik: Unverzichtbar für die Herstellung von Halbleiterbauelementen und integrierten Schaltkreisen.
- Herstellung von Halbleitern: Wird im Beschichtungsprozess für Solarzellen, LEDs und verschiedene Halbleiterkomponenten verwendet.
- Forschung und Entwicklung: Ideal für Versuchsaufbauten und Prototyping bei fortgeschrittenen Materialstudien.
- Industrielle Beschichtungen: Anwendbar bei der Oberflächenbehandlung von Bauteilen zur Verbesserung der Haltbarkeit.

Nickel-Eisen-Sputter-Target-Verpackung

Unser Nickel-Eisen-Sputtering-Target wird kundenspezifisch verpackt, um einen optimalen Schutz während des Transports und der Lagerung zu gewährleisten. Zu den Verpackungsoptionen gehören vakuumversiegelte Verpackungen, die auf die Anforderungen des Kunden zugeschnitten sind und die Integrität des Produkts von der Herstellung bis zur Anwendung sicherstellen.

Häufig gestellte Fragen

F: Was ist ein Sputtertarget?
A: Ein Sputtertarget ist ein hochreines Material, das im Verfahren der physikalischen Gasphasenabscheidung zur Herstellung dünner Schichten auf Substraten in der Elektronik, Optik und anderen Anwendungen verwendet wird.

F: Wie wird die Reinheit des Nickel-Eisen-Sputtertargets sichergestellt?
A: Das Target wird unter strengen Qualitätskontrollen mit strengen Prüfprotokollen hergestellt, um einen Reinheitsgrad von ≥99% zu gewährleisten.

F: Kann ich kundenspezifische Größen für das Sputtering-Target anfordern?
A: Ja, unser Nickel-Eisen-Sputtering-Target ist in anpassbaren Formen und Größen erhältlich, um spezifische Projektanforderungen zu erfüllen.

F: Welche Branchen verwenden typischerweise Nickel-Eisen-Sputtertargets?
A: Branchen wie die Halbleiterherstellung, die Mikroelektronik, die Photovoltaik und Forschungslabors verwenden diese Sputtertargets häufig.

F: Wie sollte das Sputtering-Target gelagert werden?
A: Um eine optimale Qualität zu erhalten, sollte das Target in einer sauberen, trockenen Umgebung gelagert und angemessen verpackt werden, um es vor Verunreinigungen und mechanischen Schäden zu schützen.