ST0998 Nickel-Kobalt-Zerstäubungstarget, Ni-Co

Nickel-Kobalt (Ni-Co) Sputtering Target Beschreibung

Das Nickel-Kobalt-Sputtertarget, Ni-Co, wurde mit Hilfe fortschrittlicher Herstellungstechniken entwickelt, um außergewöhnliche Leistungen bei Dünnschichtabscheidungsprozessen zu erzielen. Mit einem Reinheitsgrad von ≥99% bietet dieses Target konsistente und reproduzierbare Ergebnisse für eine Vielzahl von Anwendungen. Es ist in Standard-Scheibenformen erhältlich oder kann nach individuellen Kundenspezifikationen angefertigt werden.

Das in verschiedenen Industriezweigen eingesetzte Target gewährleistet optimale Abscheideleistungen und gleichmäßige Schichteigenschaften und ist daher in Bereichen wie der Halbleiterherstellung, der Displaytechnologie und bei Präzisionsbeschichtungsprozessen unverzichtbar. Die Einbindung einer hochwertigen Indium-Bindung verbessert die Leistung des Targets unter harten Betriebsbedingungen weiter.

Nickel-Kobalt (Ni-Co) Sputtering Target Anwendungen

- Herstellung von Halbleitern: Ideal für die Herstellung gleichmäßiger Dünnschichten in der Produktion von integrierten Schaltungen und elektronischen Geräten.
- Display-Technologien: Wird für die Abscheidung von Schichten für Flachbildschirme und LED-Substrate verwendet.
- Industrielle Beschichtungen: Bietet Schutz- und Funktionsschichten für Komponenten, die eine hohe Haltbarkeit und Leistung erfordern.
- Forschung und Entwicklung: Geeignet für experimentelle Sputtering-Aufbauten und die Entwicklung von Prototypen.

Nickel-Kobalt (Ni-Co) Sputtering Target Packing

Unser Nickel-Kobalt-Sputtertarget wird sicher verpackt, um seine außergewöhnliche Reinheit und Leistung zu erhalten.
- Es sind vakuumversiegelte oder feuchtigkeitsgeschützte Verpackungsoptionen erhältlich.
- Maßgeschneiderte Verpackungslösungen gewährleisten einen sicheren Transport unabhängig vom Auftragsvolumen.

Häufig gestellte Fragen

F: Welche Vorteile bietet das Nickel-Kobalt-Sputtering-Target gegenüber anderen Targets?
A: Es bietet eine überragende Reinheit (≥99%) und wird nach anspruchsvollen Standards hergestellt, die eine gleichbleibende Filmqualität und Leistung bei verschiedenen Anwendungen gewährleisten.

F: Kann die Form des Sputtertargets angepasst werden?
A: Ja, das Target ist in Form von Standardscheiben erhältlich, kann aber auch nach spezifischen Kundenanforderungen angefertigt werden.

F: Welche Rolle spielt Indium bei der Bindung des Targets?
A: Die Indiumbindung verbessert die Leistung des Targets, indem sie für eine hervorragende Haftung und thermische Stabilität während des Sputterprozesses sorgt.

F: Ist das Nickel-Kobalt-Sputtertarget für industrielle Großserienanwendungen geeignet?
A: Auf jeden Fall, denn aufgrund seiner hohen Reinheit und gleichbleibenden Leistung eignet es sich sowohl für die Forschung in kleinem Maßstab als auch für die industrielle Produktion in großem Maßstab.

F: Wie stelle ich die richtige Lagerung und Handhabung des Sputtertargets sicher?
A: Das Target sollte in einer sauberen, trockenen Umgebung gelagert und mit geeigneten Werkzeugen vorsichtig gehandhabt werden, um Verunreinigungen und Schäden zu vermeiden.