ST0986 Siliciumdioxid-Zink-Sulfid-Sputtering-Target, SiO2-ZnS

Siliziumdioxid-Zink-Sulfid Sputtering Target Beschreibung

Das Siliziumdioxid-Zink-Sulfid-Sputtertarget, SiO2-ZnS, wird mit Hilfe von Präzisionsherstellungsverfahren produziert, um eine außergewöhnliche Reinheit (≥99%) und Konsistenz zu gewährleisten. Es wurde für fortschrittliche Sputtering-Anwendungen entwickelt und bietet zuverlässige Leistung bei der Abscheidung von dünnen Schichten und Beschichtungen in der High-Tech-Industrie. Seine anpassbaren Formen, darunter Standard-Scheibenkonfigurationen oder maßgeschneiderte Optionen, bieten Vielseitigkeit für eine breite Palette von Anwendungen von der Mikroelektronik bis hin zu Forschung und Entwicklung.

Anwendungen für Siliziumdioxid-Zink-Sulfid-Sputter-Targets

- Halbleiterherstellung: Ideal für die Abscheidung hochwertiger Dünnschichten auf Siliziumwafern.
- Optoelektronik: Für die Herstellung von optischen Beschichtungen für LEDs, Displays und andere Geräte.
- Oberflächentechnik: Bietet hervorragende Beschichtungslösungen für Verschleißfestigkeit und verbesserte Leistung von Industriekomponenten.
- Forschung und Entwicklung: Dient als kritisches Material für experimentelle Sputtering-Prozesse in materialwissenschaftlichen Labors.

Siliziumdioxid-Zink-Sulfid Sputtertarget-Packung

Unsere Siliziumdioxid-Zink-Sulfid-Sputtering-Targets werden mit größter Sorgfalt verpackt, um ihren einwandfreien Zustand während der Lagerung und des Transports zu erhalten. Die Produkte können in speziellen Verpackungen vakuumversiegelt werden, wobei Optionen in Standardmengen oder als Großbestellungen je nach Kundenwunsch erhältlich sind.

Häufig gestellte Fragen

F: Was sind die Hauptanwendungen des Siliziumdioxid-Zink-Sulfid-Sputter-Targets?
A: Es wird in erster Linie für das Sputtern in der Halbleiterfertigung, bei der Herstellung optoelektronischer Geräte, in der Oberflächentechnik sowie in der Forschung und Entwicklung eingesetzt.

F: Kann die Form des Sputtering Targets angepasst werden?
A: Ja, das Produkt ist in standardmäßigen Scheibenformen erhältlich oder kann kundenspezifisch angefertigt werden, um spezifische Anwendungsanforderungen zu erfüllen.

F: Wie hoch ist der Reinheitsgrad dieses Produkts?
A: Das Siliziumdioxid-Zink-Sulfid Sputtering Target hat einen Reinheitsgrad von ≥99%.

F: Wird die Dichte oder der Schmelzpunkt für dieses Material angegeben?
A: Nein, die Parameter Dichte und Schmelzpunkt sind für dieses Produkt nicht anwendbar (N/A).

F: Wie erkundige ich mich nach kundenspezifischen Bestellungen oder Großverpackungen?
A: Bitte wenden Sie sich mit Ihren Spezifikationen und Verpackungsanforderungen an unser Vertriebsteam. Wir helfen Ihnen gerne mit maßgeschneiderten Lösungen.