ST0980 Kalium-Natrium-Niobat-Sputtertarget, KNaNb2O6

Kalium-Natrium-Niobat-Sputtertarget Beschreibung

Das Kaliumnatriumniobat-Sputtertarget, KNaNb2O6, wurde entwickelt, um die hohen Anforderungen moderner Dünnschichtabscheidungs- und Sputteranwendungen zu erfüllen. Dieses Target wird mit einer Zusammensetzung von KNaNb₂O₆ und einer Reinheit von ≥99% hergestellt und ist als Scheibe erhältlich oder kann für spezielle industrielle Anforderungen maßgeschneidert werden. Das Produkt ist mit einer zuverlässigen Indiumbindung versehen, die für Stabilität und optimale Leistung in Sputteranlagen sorgt. Seine fortschrittlichen Materialeigenschaften machen es zu einer idealen Lösung für Präzisionsanwendungen in der Elektronik, Sensorik und Photovoltaik.

Kalium-Natrium-Niobat-Sputter-Target-Anwendungen

- Dünnschichtabscheidung: Unverzichtbar für die Herstellung hochwertiger Schichten in Halbleiter-, Photovoltaik- und elektronischen Geräten.
- Sensortechnik: Wird bei der Herstellung empfindlicher Geräte verwendet, bei denen die Gleichmäßigkeit des Materials entscheidend ist.
- Oberflächentechnik: Ermöglicht hochpräzise Beschichtungstechniken für industrielle Komponenten.
- Forschung und Entwicklung: Ideal für Versuchsaufbauten in der Materialwissenschaft und in technischen Studien.

Kalium-Natrium-Niobat Sputtertarget-Packung

Jedes Kaliumnatriumniobat-Sputtertarget wird sorgfältig verpackt, um seine Unversehrtheit während des Transports zu schützen. Es sind kundenspezifische Verpackungsoptionen erhältlich, um spezifische Produktions- und Handhabungsanforderungen zu erfüllen.

Häufig gestellte Fragen

F: Was sind die Hauptvorteile der Verwendung von Kaliumnatriumniobat-Sputtertargets?
A: Es bietet eine hochreine Zusammensetzung (≥99%) mit anpassbaren Formen und einer zuverlässigen Indiumbindung, die eine konstante Leistung bei der Dünnschichtabscheidung gewährleistet.

F: Kann ich Sputtering-Targets in kundenspezifischen Größen erhalten?
A: Ja, das Produkt ist in kundenspezifischen Größen erhältlich, um den verschiedenen Anwendungsanforderungen gerecht zu werden. Bitte kontaktieren Sie unser Support-Team für spezifische Abmessungen.

F: Wie verbessert die Indiumbindung die Leistung des Targets?
A: Die Indiumbindung sorgt für eine hervorragende Wärmeleitfähigkeit und Haftung, die für die Aufrechterhaltung einer gleichmäßigen Targetleistung während des Sputterprozesses entscheidend sind.

F: Ist dieses Sputtertarget für elektronische Anwendungen geeignet?
A: Absolut, seine hochreine Zusammensetzung und gleichmäßige Leistung machen es ideal für elektronische Geräte, Sensoren und andere Präzisionsanwendungen.

F: Welche technische Unterstützung ist für die Installation und Verwendung verfügbar?
A: Unser engagiertes technisches Team und unser Kundensupport helfen Ihnen bei der Installation, Leistungsoptimierung und bei allen Fragen zur Anpassung an Ihre Bedürfnisse.