ST0978 Mangan-Zinn-Sputtering-Target, MnSn

Mangan-Zinn Sputtering Target, MnSn Beschreibung

Das Mangan-Zinn-Sputter-Target, MnSn, wurde entwickelt, um eine überragende Leistung bei Präzisions-Dünnschichtabscheidungsprozessen zu bieten. Dieses Target wird mit einem hohen Reinheitsgrad (≥99%) hergestellt und ist in Form von Scheiben oder kundenspezifischen Formen erhältlich und wurde für fortschrittliche Anwendungen in der Halbleiter- und Elektronikfertigung entwickelt. Seine einzigartige Zusammensetzung gewährleistet optimale magnetische und leitfähige Eigenschaften und trägt zu einer verbesserten Gleichmäßigkeit und Haltbarkeit der Schichten bei. Das Produkt wird durch das Engagement von Stanford Advanced Materials für Innovation und Exzellenz unterstützt und ist somit eine zuverlässige Wahl für moderne industrielle Anwendungen.

Mangan-Zinn Sputtering Target, MnSn Anwendungen

- Dünnschichtabscheidung: Ideal für die Herstellung hochwertiger Beschichtungen in der Halbleiter- und Elektronikindustrie.
- Mikroelektronik: Wird bei der Herstellung von integrierten Schaltkreisen und modernen Sensoren verwendet.
- Magnetische Speichergeräte: Unterstützt die Herstellung von magnetischen Dünnschichten für Datenspeicheranwendungen.
- Forschung und Entwicklung: Dient als wichtiges Material für Versuchsaufbauten in der Materialwissenschaft.

Mangan-Zinn-Sputtering-Target, MnSn-Packung

Unsere Mangan-Zinn-Sputter-Targets werden mit äußerster Sorgfalt gehandhabt und verpackt, um die Produktintegrität zu erhalten.
Verpackungsart: Vakuumversiegelte Verpackung für optimale Konservierung
Verpackungsoptionen: Individuell anpassbar je nach Kundenwunsch (z. B. einzelne Scheiben oder Massenversand)

Häufig gestellte Fragen

F: Was sind die Hauptanwendungen des Mangan-Zinn-Sputter-Targets, MnSn?
A: Aufgrund seiner hohen Reinheit und seiner hervorragenden Materialeigenschaften wird es vor allem in der Dünnschichtabscheidung, der Halbleiterherstellung, der Mikroelektronik und in der Forschung eingesetzt.

F: Kann die Form des Sputtertargets individuell angepasst werden?
A: Ja, die Targets sind als Standardscheiben erhältlich oder können kundenspezifisch angefertigt werden, um spezifische Fertigungsanforderungen zu erfüllen.

F: Wie wirkt sich die Reinheit von ≥99% auf den Sputterprozess aus?
A: Eine Reinheit von ≥99% gewährleistet minimale Verunreinigungen, was zu einer verbesserten Gleichmäßigkeit des Films, einer besseren Haftung und einer verbesserten Gesamtleistung bei hochpräzisen Anwendungen führt.

F: Welche Rolle spielt die Indiumbindung bei diesem Sputtertarget?
A: Die Indiumbindung sorgt für eine hervorragende Haftung und Wärmeleitfähigkeit, was für die Aufrechterhaltung der strukturellen Integrität des Targets während des Sputterprozesses entscheidend ist.

F: Wie wird die Qualität des Mangan-Zinn-Sputtertargets während der Verpackung und des Versands aufrechterhalten?
A: Die Targets sind vakuumversiegelt und werden unter strengen Qualitätskontrollmaßnahmen gehandhabt, um sicherzustellen, dass sie bei der Lieferung ihre ursprünglichen Materialeigenschaften und Leistungsmerkmale behalten.