ST0951 Kupfer-Zink-Zinn-Sulfid-Sputtering-Target, CZTS

Kupfer-Zink-Zinn-Sulfid Sputtering Target Beschreibung

Das Kupfer-Zink-Zinn-Sulfid-Sputter-Target, CZTS, wird mit einer Reinheit von ≥99% hergestellt und ist in Scheiben- oder kundenspezifischen Formen erhältlich. Mit einem Schmelzpunkt von 990 °C und einer Dichte von 4,56 g/cm³ ist dieses Target für fortschrittliche Sputter- und Dünnschichtabscheidungsprozesse konzipiert. Seine Zusammensetzung, Cu₂ZnSnS₄, gewährleistet hervorragende Leistungen bei Anwendungen, die präzise Materialeigenschaften und hohe Zuverlässigkeit erfordern. Dieses Produkt ist ideal für fortschrittliche Halbleiter-, Photovoltaik- und Beschichtungsanwendungen geeignet.

Kupfer-Zink-Zinn-Sulfid Sputtering Target Anwendungen

- Dünnschichtabscheidung: Ideal für die Herstellung gleichmäßiger Dünnschichten in Halbleiter- und Photovoltaikanwendungen.
- Photovoltaische Geräte: Unterstützt die Herstellung von effizienten Solarzellen mit hohem Umwandlungswirkungsgrad.
- Herstellung von Halbleitern: Geeignet für den Einsatz im Abscheidungsprozess von Hochleistungs-Halbleitergeräten.
- Beschichtungen: Bietet eine starke und konsistente Schicht für Schutz- und Funktionsbeschichtungen in der modernen Materialverarbeitung.

Kupfer-Zink-Zinn-Sulfid Sputtering Target Packing

Unser Kupfer-Zink-Zinn-Sulfid-Sputter-Target wird sorgfältig verpackt, um seine hohe Reinheit und Integrität während der Lagerung und des Transports zu erhalten. Kundenspezifische Verpackungsoptionen sind verfügbar, um die spezifischen Anforderungen Ihrer Anwendungen zu erfüllen.

Häufig gestellte Fragen

F: Was ist die ideale Anwendung für das Kupfer-Zink-Zinn-Sulfid-Sputter-Target, CZTS?
A: Es ist ideal für die Abscheidung von Dünnschichten bei der Halbleiterherstellung, der Produktion von Photovoltaikzellen und fortschrittlichen Beschichtungsanwendungen.

F: Welchen Reinheitsgrad bietet das Sputtering-Target?
A: Das Target wird mit einem Reinheitsgrad von ≥99 % hergestellt, was eine gleichbleibende und hochwertige Leistung gewährleistet.

F: In welchen Formen kann das Sputtertarget geliefert werden?
A: Das Target ist in Scheibenform erhältlich oder kann nach Maß gefertigt werden, um spezifischen Anwendungsanforderungen gerecht zu werden.

F: Wie sollte das Kupfer-Zink-Zinn-Sulfid-Sputtering-Target gelagert werden?
A: Es sollte in einer sauberen, trockenen Umgebung gelagert werden, um seine Qualität zu erhalten und eine optimale Leistung während der Verwendung zu gewährleisten.

F: Sind für dieses Produkt kundenspezifische Größen erhältlich?
A: Ja, die verfügbaren Größen für das Sputtering-Target sind vollständig anpassbar, um Ihre Anwendungsanforderungen zu erfüllen.