(Eingestellt) ST0946 Galliumarsenid-Sputtertarget, GaAs

Galliumarsenid Sputtering Target Beschreibung

Das Galliumarsenid-Sputtertarget, GaAs, ist für außergewöhnliche Leistungen bei Hightech-Beschichtungsanwendungen ausgelegt. Es wird unter strengen Qualitätskontrollen hergestellt, weist eine Reinheit von ≥99% auf und ist in kundenspezifischen Formen wie Scheiben erhältlich. Dieses Target wurde entwickelt, um eine gleichmäßige Materialverteilung während des Sputterprozesses zu gewährleisten und somit eine gleichbleibende Leistung bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen und optoelektronischen Anwendungen sicherzustellen. Aufgrund seiner einzigartigen Zusammensetzung eignet es sich ideal zum Erreichen hoher Präzision und Zuverlässigkeit, selbst unter anspruchsvollen Bedingungen.

Galliumarsenid Sputtering Target Anwendungen

- Halbleiterherstellung: Ideal für die Herstellung von Dünnschichten, die in integrierten Schaltungen und Hochfrequenzgeräten verwendet werden.
- Optoelektronische Geräte: Einsatz bei der Herstellung von LEDs, Laserdioden und Fotodetektoren.
- Oberflächenbeschichtungen: Werden in Sputtering-Prozessen eingesetzt, um gleichmäßige Schichten auf verschiedenen Substraten abzuscheiden.
- Forschung und Entwicklung: Weit verbreitet in Versuchsaufbauten zur Entwicklung fortschrittlicher elektronischer und photonischer Systeme.

Galliumarsenid Sputtering Target Packing

Unser Galliumarsenid-Sputtering-Target wird sorgfältig in vakuumversiegelten Schutzbehältern verpackt, um seine Reinheit und Unversehrtheit bei Lagerung und Transport zu gewährleisten. Kundenspezifische Verpackungsoptionen sind ebenfalls erhältlich, um spezifische Kundenanforderungen zu erfüllen.

Häufig gestellte Fragen

F: Was sind die Hauptanwendungen des Galliumarsenid-Sputtertargets?
A: Es wird hauptsächlich in der Halbleiterherstellung, bei der Herstellung optoelektronischer Geräte, bei der Abscheidung von Oberflächenbeschichtungen und bei F&E-Anwendungen in der modernen Elektronik eingesetzt.

F: Wie wird der Reinheitsgrad von ≥99% im Produktionsprozess aufrechterhalten?
A: Der Produktionsprozess umfasst strenge Qualitätskontrollmaßnahmen und modernste Reinigungsmethoden, um sicherzustellen, dass das GaAs-Target seinen hohen Reinheitsgrad beibehält.

F: Kann die Form und Größe für bestimmte Sputteranlagen angepasst werden?
A: Ja, das Produkt ist in Form von Scheiben oder maßgeschneiderten Formen und Größen erhältlich, die den Anforderungen verschiedener Sputteranlagen entsprechen.

F: Welche Vorsichtsmaßnahmen sind bei der Handhabung dieses Sputtertargets zu beachten?
A: Es wird empfohlen, das Target in einer sauberen, kontrollierten Umgebung und mit geeigneter Schutzausrüstung zu handhaben, um eine Kontamination zu vermeiden und die Sicherheit zu gewährleisten.

F: Ist das Galliumarsenid-Sputtertarget sowohl für Forschungs- als auch für Industrieanwendungen geeignet?
A: Auf jeden Fall, denn aufgrund seiner hohen Leistung und Zuverlässigkeit eignet es sich sowohl für die Laborforschung als auch für die industrielle Großproduktion in der Halbleiter- und Optoelektronikbranche.