ST0945 Kadmiumarsenid-Sputtertarget, Cd3As2

Kadmiumarsenid-Sputtertarget Beschreibung

Das Kadmiumarsenid-Sputtertarget, Cd3As2, wurde speziell für industrielle Sputteranwendungen entwickelt. Mit einer Reinheit von ≥99% und anpassbaren Formen wie Scheiben oder maßgeschneiderten Konfigurationen bietet dieses Produkt gleichbleibende Leistung und Präzision. Seine physikalischen Eigenschaften, darunter ein Schmelzpunkt von 716 °C und eine Dichte von 3,031 g/cm³, gewährleisten Zuverlässigkeit und Stabilität unter anspruchsvollen Verarbeitungsbedingungen.

Anwendungen von Kadmiumarsenid-Sputter-Targets

- Oberflächenbeschichtungen: Unverzichtbar für die Dünnschichtabscheidung in der Elektronik und für moderne optische Beschichtungen.
- Mikroelektronik: Ideal für die Herstellung von Halbleiterschichten und integrierten Schaltungen.
- Forschung und Entwicklung: Wird in Versuchsaufbauten verwendet, die hochreine Sputtertargets erfordern.
- Kundenspezifische industrielle Anwendungen: Maßgeschneiderte Formen erleichtern spezielle Sputterprozesse und die Kompatibilität der Anlagen.

Kadmiumarsenid-Sputtertarget-Packung

Unsere Kadmiumarsenid-Sputtertargets werden mit äußerster Sorgfalt verpackt, um ihre Reinheit und strukturelle Integrität zu erhalten. Zu den Verpackungsoptionen gehören vakuumversiegelte Schutzbehälter und kundenspezifische Verpackungsdesigns, die auf Ihre Versandanforderungen zugeschnitten sind und eine sichere Lagerung und einen sicheren Transport gewährleisten.

Häufig gestellte Fragen

F: In welchen Branchen werden Kadmiumarsenid-Sputtertargets typischerweise verwendet?
A: Sie werden häufig in der Halbleiterfertigung, der Elektronik und der optischen Beschichtungsindustrie eingesetzt.

F: Wie werden kundenspezifische Größen und Formen hergestellt?
A: Kundenspezifische Fertigungsoptionen ermöglichen die Anpassung des Produkts an spezifische Kundenanforderungen für eine optimale Kompatibilität mit verschiedenen Sputtering-Systemen.

F: Welche Maßnahmen zur Qualitätskontrolle gibt es für dieses Produkt?
A: Jede Charge wird strengen Qualitätskontrolltests unterzogen, um die Einhaltung von Industriestandards und eine gleichbleibende Leistung zu gewährleisten.

F: Warum ist ein hoher Schmelzpunkt für ein Sputtertarget wichtig?
A: Ein hoher Schmelzpunkt gewährleistet Stabilität bei Hochtemperatur-Sputterprozessen, was die Gesamtleistung und Zuverlässigkeit des Targets verbessert.

F: Können vor einem Großeinkauf Muster für Tests zur Verfügung gestellt werden?
A: Ja, Musteranfragen können berücksichtigt werden, um eine Bewertung unter Ihren spezifischen Anwendungsbedingungen zu ermöglichen.