ST0933 Aluminiumselenid-Sputtertarget, Al2Se3

Aluminiumselenid-Sputtertarget Beschreibung

Das Aluminiumselenid-Sputtertarget, Al2Se3, wurde für eine hervorragende Leistung bei Sputtering-Beschichtungsprozessen entwickelt. Hergestellt mit einer Reinheit von ≥99% und erhältlich in Scheiben oder kundenspezifischen Formen, gewährleistet dieses Target eine zuverlässige, qualitativ hochwertige Schichtabscheidung in Halbleiter- und fortschrittlichen Beschichtungsanwendungen. Mit einem Schmelzpunkt von 1000 °C und einer Dichte von 3,43 g/cm³ ist das Produkt so konzipiert, dass es industriellen Hochtemperaturprozessen standhält und gleichzeitig eine ausgezeichnete Stabilität aufweist. Die Indium-Bindung verbessert die thermische und mechanische Unterstützung während des Sputterns und macht es zu einer idealen Wahl für Präzisionsanwendungen.

Anwendungen für Aluminiumselenid-Sputter-Targets

- Abscheidung von Halbleitern: Ideal für die Aufbringung gleichmäßiger dünner Schichten in der Mikroelektronik.
- Moderne Beschichtungen: Hervorragend geeignet für optische Beschichtungen, verschleißfeste Schichten und Schutzfilme.
- Materialforschung: Wird in Versuchsaufbauten für neuartige Materialuntersuchungen verwendet.
- Industrielle Fertigung: Unterstützt Hochtemperaturprozesse in verschiedenen Fertigungsumgebungen.
- Kundenspezifische Industrielösungen: Anpassbar an spezifische industrielle Anforderungen mit kundenspezifischen Größen und Formen.

Aluminiumselenid-Sputter-Target-Packung

Unsere Aluminiumselenid-Sputtertargets werden mit äußerster Sorgfalt verpackt, um die Produktintegrität während des Transports und der Lagerung zu gewährleisten. Zu den Standardverpackungen gehören vakuumversiegelte Packungen, und wir bieten kundenspezifische Verpackungslösungen an, um spezifische Lieferanforderungen und Mengen zu erfüllen.

Häufig gestellte Fragen

F: Warum eignet sich Aluminiumselenid für Sputtering-Anwendungen?
A: Aluminiumselenid besitzt einzigartige Materialeigenschaften wie hohe Reinheit und thermische Stabilität, die für die Erzielung gleichmäßiger dünner Schichten bei Sputtering-Prozessen entscheidend sind.

F: Welche Formen sind für das Sputtertarget erhältlich?
A: Das Target ist in Standard-Scheibenformen erhältlich oder kann nach Maß gefertigt werden, um spezifische Anwendungsanforderungen zu erfüllen.

F: Wie trägt die Indiumbindung zur Leistung des Targets bei?
A: Die Indiumbindung sorgt für eine verbesserte thermische und mechanische Unterstützung während des Sputterprozesses und gewährleistet eine stabile Leistung unter harten Bedingungen.

F: Kann dieses Sputtertarget Hochtemperaturanwendungen standhalten?
A: Ja, mit einem Schmelzpunkt von 1000 °C ist dieses Aluminiumselenid-Target gut für Hochtemperaturanwendungen in Industrie und Forschung geeignet.

F: Wie kann ich eine kundenspezifische Größe für meine Anwendung bestellen?
A: Wenden Sie sich einfach an unser Vertriebsteam und teilen Sie uns Ihre Spezifikationen mit, damit wir Ihnen maßgeschneiderte Lösungen für Ihre Anforderungen anbieten können.