ST0932 Praseodymfluorid-Sputtertarget, PrF3

Praseodym-Fluorid-Sputtertarget Beschreibung

Das Praseodymfluorid-Sputtertarget PrF3 ist für Hochleistungs-Sputterverfahren konzipiert. Dieses Target, das mit einer präzisen chemischen Zusammensetzung hergestellt wird und in Scheiben- oder kundenspezifischer Form erhältlich ist, gewährleistet eine hervorragende Schichtgleichmäßigkeit und Haftung. Seine robusten Eigenschaften und seine chemische Stabilität ermöglichen eine optimale Leistung in modernen Beschichtungstechnologien und elektronischen Anwendungen.

Praseodym-Fluorid-Sputter-Target Anwendungen

- Halbleiter-Beschichtung: Ideal für die Herstellung von Hochleistungs-Dünnschichten in Halbleitergeräten.
- Optische Beschichtungen: Für die Herstellung präziser optischer Schichten in Linsen und Anzeigetafeln.
- Magnetische Speichermedien: Ermöglicht die Herstellung fortschrittlicher magnetischer Schichten für Datenspeichergeräte.
- Herstellung von Solarzellen: Geeignet für die Herstellung von Dünnschichtsolarzellen mit hohen Wirkungsgraden.
- Forschung und Entwicklung: Bevorzugt in Versuchsaufbauten für neuartige Sputter- und Beschichtungstechniken.

Praseodym-Fluorid-Sputter-Target-Packung

Unsere Praseodym-Fluorid-Sputter-Targets werden sicher verpackt, um die Produktintegrität zu erhalten und eine Kontamination während der Lagerung und des Transports zu verhindern. Zu den Verpackungslösungen gehören kundenspezifische, vakuumversiegelte Optionen mit Schutzpolstern, die den spezifischen Versand- und Handhabungsanforderungen entsprechen.

Häufig gestellte Fragen

F: Wofür wird ein Sputtertarget verwendet?
A: Ein Sputtering-Target wird in PVD-Verfahren (Physical Vapor Deposition) verwendet, um dünne Schichten auf verschiedenen Substraten für elektronische, optische und dekorative Anwendungen abzuscheiden.

F: In welchen Branchen werden Praseodymfluorid-Sputtertargets verwendet?
A: Sie finden breite Anwendung in der Halbleiterherstellung, bei optischen Beschichtungen, magnetischen Speichermedien, bei der Herstellung von Solarzellen und in der Forschung.

F: Wie wird die hohe Reinheit (≥99%) des PrF₃-Targets sichergestellt?
A: Unser Herstellungsprozess folgt strengen Qualitätskontrollprotokollen und fortschrittlichen Veredelungstechniken, um eine konstante Reinheit von ≥99% zu erreichen.

F: Sind für dieses Produkt kundenspezifische Formen und Größen erhältlich?
A: Ja, das Produkt ist in Form von Standardscheiben erhältlich, kann aber auch kundenspezifisch angefertigt werden, um spezielle Anwendungsanforderungen zu erfüllen.

F: Welche Vorteile bietet die Indiumbindung in diesem Sputtertarget?
A: Die Indiumbindung bietet eine hervorragende Haltbarkeit und thermische Stabilität und gewährleistet eine optimale Leistung während des Sputterprozesses.