ST0929 Kryolith-Zerstäubungstarget, Na3-AlF6

Cryolite Sputtering Target Beschreibung

Das Cryolite Sputtering Target, Na3-AlF6, wird sorgfältig hergestellt, um eine hohe Leistung in verschiedenen fortschrittlichen industriellen Anwendungen zu gewährleisten. Durch den Einsatz modernster Produktionstechniken bietet das Target eine außergewöhnliche Reinheit und Stabilität, die eine optimale Leistung bei Sputtering- und Dünnschichtabscheidungsprozessen gewährleistet. Sein hoher Schmelzpunkt und seine maßgeschneiderte Dichte machen es zu einer hervorragenden Wahl für Anwendungen, die eine robuste chemische Beständigkeit und präzise Materialeigenschaften erfordern.

Cryolite Sputtering Target Anwendungen

- Dünnschichtabscheidung: Perfekt für die Abscheidung hochwertiger Schichten bei der Herstellung von Halbleitern und optoelektronischen Geräten.

- OptischeBeschichtungen: Für die Herstellung von reflektierenden oder antireflektierenden Beschichtungen für moderne optische Systeme.

- ElektronischeKomponenten: Einsatz bei der Herstellung von Komponenten, die eine hohe Konsistenz und Zuverlässigkeit erfordern.

- Oberflächenmodifizierung: Ideal zur Verbesserung von Oberflächeneigenschaften wie Härte und Korrosionsbeständigkeit bei verschiedenen Industriewerkzeugen.

- Forschungund Entwicklung: Bietet eine konsistente Materialplattform für die Entwicklung innovativer Beschichtungstechnologien.

Cryolite Sputtering Target Packing

Unsere Cryolite Sputtering Target Produkte werden sorgfältig entwickelt und unter strengen Qualitätskontrollen verpackt, um ihre Unversehrtheit während Lagerung und Transport zu gewährleisten. Es sind kundenspezifische Verpackungslösungen erhältlich, die den spezifischen Anforderungen der Branche entsprechen. Bei Standardbestellungen wird das Produkt vakuumversiegelt, um maximalen Schutz vor Verunreinigungen und Umwelteinflüssen zu gewährleisten.

Häufig gestellte Fragen

F: Wozu wird Kryolith in Sputtertargets verwendet?
A: Kryolith wird aufgrund seiner einzigartigen chemischen Zusammensetzung und Eigenschaften in Sputtertargets verwendet, um hochwertige Dünnschichten und Beschichtungen in Halbleiter- und optischen Anwendungen zu erzielen.

F: Wie wird die Reinheit des Cryolite Sputtering Targets sichergestellt?
A: Das Produkt wird während der Herstellung strengen Qualitätskontrollverfahren und Reinigungstechniken unterzogen, um einen Reinheitsgrad von ≥99% zu gewährleisten.

F: Kann die Form des Cryolite Sputtering Targets angepasst werden?
A: Ja, das Target ist in Standard-Scheibenformen erhältlich oder kann nach Maß gefertigt werden, um spezifische Anwendungsanforderungen zu erfüllen.

F: Welche Branchen profitieren am meisten vom Einsatz des Cryolite Sputtering Targets?
A: Branchen wie die Halbleiterherstellung, die optische Beschichtung, die Elektronik und die moderne Materialforschung profitieren stark von diesem hochreinen Target.

F: Wie sollte das Cryolite Sputtering Target gelagert werden, um seine Qualität zu erhalten?
A: Es sollte in einer sauberen, trockenen Umgebung mit vakuumversiegelter Verpackung gelagert werden, um Verunreinigungen und eine Verschlechterung seiner Eigenschaften zu verhindern.