ST0923 Kupfer-Zink-Tellurid-Sputtering-Target, CuZnTe, CZT

Kupfer-Zink-Tellurid-Sputtertarget Beschreibung

Das Kupfer-Zink-Tellurid-Sputtertarget, CuZnTe, CZT, ist ein hochleistungsfähiges Sputtertarget, das für fortschrittliche Dünnschichtabscheidungsprozesse entwickelt wurde. Dieses Target wird mit einer Reinheit von ≥99% hergestellt und ist in Scheiben oder maßgeschneiderten Konfigurationen erhältlich, um spezifische industrielle Anforderungen zu erfüllen. Seine Zusammensetzung und Struktur sind optimiert, um eine konsistente und gleichmäßige Schichtabscheidung zu gewährleisten, die für die Herstellung von Halbleiter- und Photonikbauteilen entscheidend ist. Mit seinem robusten Design ist das Target ideal für Anwendungen, die eine hohe Präzision und Zuverlässigkeit bei der Schichtleistung erfordern.

Anwendungen für Kupfer-Zink-Tellurid-Sputter-Targets

- Herstellung von Halbleitern: Ideal für die Herstellung hochwertiger Dünnschichten in elektronischen und optoelektronischen Geräten.
- Photonische Geräte: Wird im Abscheidungsprozess für optische Komponenten mit präziser Mikrostrukturkontrolle verwendet.
- Forschung und Entwicklung: Perfekt für Versuchsaufbauten und fortgeschrittene materialwissenschaftliche Forschung, bei denen reproduzierbare Sputterverfahren erforderlich sind.
- Industrielle Beschichtungen: Werden dort eingesetzt, wo eine gleichmäßige Schichtabscheidung für Leistung und Haltbarkeit unerlässlich ist.

Kupfer-Zink-Tellurid Sputtertarget-Packung

Unser Kupfer-Zink-Tellurid-Sputtering-Target wird sorgfältig verpackt, um den Schutz während der Lagerung und des Transports zu gewährleisten. Die Verpackungen werden den Kundenwünschen entsprechend angepasst und bieten optimalen Schutz und einfache Handhabung.

Häufig gestellte Fragen

F: Was ist ein Sputtertarget?
A: Ein Sputtering-Target ist ein speziell präpariertes Material, das in physikalischen Aufdampfprozessen verwendet wird, bei denen Ionen das Target beschießen, um Atome auszustoßen, die sich als dünner Film auf Substraten ablagern.

F: In welchen Branchen wird das CuZnTe-Sputtertarget üblicherweise verwendet?
A: Es wird hauptsächlich in der Halbleiterherstellung, der Produktion von photonischen Geräten und in Forschungsumgebungen verwendet, die eine präzise Abscheidung von Dünnschichten erfordern.

F: Wie wirkt sich der Reinheitsgrad von ≥99% auf den Sputterprozess aus?
A: Ein hoher Reinheitsgrad gewährleistet eine minimale Verunreinigung, was zu einer besseren Gleichmäßigkeit der Schicht, verbesserten elektrischen Eigenschaften und einer verbesserten Gesamtleistung der Geräte führt.

F: Gibt es für dieses Produkt auch kundenspezifische Größen?
A: Ja, das Kupfer-Zink-Tellurid-Sputter-Target ist in kundenspezifischen Formen einschließlich Scheiben erhältlich, die auf spezifische Anwendungsanforderungen zugeschnitten sind.

F: Welche Vorsichtsmaßnahmen sollten bei der Lagerung von Sputtertargets getroffen werden?
A: Es wird empfohlen, die Targets in einer kontrollierten Umgebung und in ihrer Originalverpackung aufzubewahren, um eine Verunreinigung oder Beschädigung vor der Verwendung zu vermeiden.