ST0919 Vanadiumoxid-Zerstäubungstarget, V2O3

Vanadium-Oxid-Sputter-Target Beschreibung

Das Vanadiumoxid-Sputtertarget, V2O₃, wurde entwickelt, um eine hervorragende Leistung bei Sputterdepositionsprozessen zu erzielen. Hergestellt aus hochreinem V₂O₃, bietet dieses Target ausgezeichnete Stabilität, präzise Kontrolle der Zusammensetzung und zuverlässige Leistung bei anspruchsvollen Dünnschichtanwendungen. Das anpassbare Design und die verfügbaren Scheibenformen machen es ideal für verschiedene industrielle Anwendungen, einschließlich Halbleiterherstellung, Solarzellenproduktion und fortschrittliche Beschichtungen.

Anwendungen für Vanadiumoxid-Sputter-Targets

- Dünnschichtabscheidung für Elektronik- und Halbleitergeräte.
- Moderne Beschichtungsanwendungen für Solarzellen und Architekturglas.
- Herstellung von hochwertigen Schichten für optische und sensorische Geräte.
- Einsatz in Forschungseinrichtungen für Oberflächenwissenschaft und Materialprüfung.

Vanadium-Oxid-Sputter-Target-Packung

Unser Vanadiumoxid-Sputtering-Target wird sorgfältig in einer kontrollierten Umgebung verpackt, um eine optimale Unversehrtheit bei Lagerung und Transport zu gewährleisten. Zu den Standardverpackungen gehören vakuumversiegelte Behälter, die die Produktqualität bewahren und kundenspezifische Größen je nach Kundenwunsch ermöglichen.

Häufig gestellte Fragen

F: Was sind die Hauptanwendungen für Vanadiumoxid-Sputter-Targets?
A: Sie werden hauptsächlich in Dünnschichtabscheidungsprozessen für Elektronik, Solarzellen, optische Geräte und Forschungsanwendungen eingesetzt.

F: Wie wird die hohe Reinheit (≥99%) des V₂O₃-Targets erhalten?
A: Das Target wird mit präzisen Techniken und strengen Qualitätskontrollen hergestellt, die seine Reinheit und gleichbleibende Leistung gewährleisten.

F: Kann die Form des Sputtertargets angepasst werden?
A: Ja, das Target ist in Form einer Standardscheibe erhältlich, kann aber auch kundenspezifisch angefertigt werden, um spezifische Anwendungsanforderungen zu erfüllen.

F: Welche Branchen profitieren am meisten von der Verwendung dieses Sputtertargets?
A: Halbleiterherstellung, Solartechnik, Optik und fortschrittliche Beschichtungsindustrien sowie Forschungslabors profitieren in hohem Maße von seinem Einsatz.

F: Wie sollte das Vanadiumoxid-Sputtering-Target gelagert werden, um seine Qualität zu erhalten?
A: Es sollte in einer kontrollierten, trockenen Umgebung gelagert und in einer vakuumversiegelten Verpackung transportiert werden, um seine Integrität und Leistung zu erhalten.