ST0917 Sputtering Target aus Edelstahl

Sputtertarget aus Edelstahl Beschreibung

Das Sputtertarget aus Edelstahl ist ein Hochleistungsmaterial, das speziell für fortschrittliche Anwendungen zur Dünnschichtabscheidung entwickelt wurde. Das unter strenger Qualitätskontrolle hergestellte Target liefert gleichmäßige, dauerhafte Beschichtungen, die sich ideal für elektronische Komponenten, optische Geräte und Sensoren eignen. Seine robuste Legierungszusammensetzung bietet eine hervorragende Verschleiß- und Korrosionsbeständigkeit und gewährleistet eine langfristige Stabilität bei Sputterprozessen. Das Target lässt sich an die genauen Spezifikationen anpassen, die für anspruchsvolle Industrie- und Forschungsanwendungen erforderlich sind.

Anwendungen für Sputtering-Targets aus Edelstahl

- Dünnschichtabscheidung: Ideal für die Herstellung gleichmäßiger Beschichtungen in der Mikroelektronik und in optischen Geräten.
- Oberflächenbeschichtungen: Zur Verbesserung der Verschleißfestigkeit und Haltbarkeit von Industrie- und Präzisionswerkzeugen.
- Mikroelektronik-Fertigung: Liefert gleichmäßige, hochwertige Schichten für die Halbleiter- und Sensorproduktion.
- Forschung und Entwicklung: Geeignet für das Prototyping und die Entwicklung in der modernen Materialforschung.

Sputtertarget-Verpackung aus Edelstahl

Unsere Sputtering-Targets aus Edelstahl sind sicher verpackt, um ihre hohe Qualität bei Lagerung und Transport zu erhalten. Zu den Standardverpackungen gehören vakuumversiegelte Optionen; kundenspezifische Konfigurationen sind auf Anfrage erhältlich.

Häufig gestellte Fragen

F: Was ist ein Sputtertarget?
A: Ein Sputtertarget ist ein Material, in der Regel in Form einer Scheibe oder einer benutzerdefinierten Form, das in Sputterprozessen verwendet wird, um durch den Ausstoß von Atomen unter Plasmabedingungen dünne Schichten auf Substrate aufzubringen.

F: Wie wirkt sich die Zusammensetzung des Targets aus rostfreiem Stahl auf seine Leistung aus?
A: Die Fe/Cr/Ni-Zusammensetzung bietet eine Reihe ausgewogener Eigenschaften wie hohe Korrosionsbeständigkeit, mechanische Festigkeit und Stabilität und ist damit ideal für die Herstellung gleichmäßiger dünner Schichten.

F: Kann ich die Größe und Form des Sputtertargets individuell anpassen?
A: Ja, kundenspezifische Größen und Formen sind erhältlich, um spezifische Anwendungsanforderungen zu erfüllen und eine optimale Leistung in Ihrem Abscheidungsprozess zu gewährleisten.

F: In welchen Branchen werden typischerweise Sputtertargets aus Edelstahl verwendet?
A: Diese Targets werden aufgrund ihrer überlegenen Haltbarkeit und Konsistenz häufig in der Elektronikfertigung, der Produktion optischer Geräte und verschiedenen industriellen Beschichtungsanwendungen eingesetzt.

F: Wie kann ich die Langlebigkeit des Sputtertargets während der Lagerung sicherstellen?
A: Unsere Targets werden sorgfältig verpackt, oft vakuumversiegelt, um sie vor Verunreinigungen und Umwelteinflüssen zu schützen und sicherzustellen, dass sie bis zur Verwendung in optimalem Zustand bleiben.