ST0910 Kupfer(I)-sulfid-Sputter-Targets, Cu2S

Kupfer(I)-Sulfid-Sputtertarget Beschreibung

Kupfer(I)-Sulfid-Sputtertargets, Cu2S, werden unter Verwendung von hochreinem Cu₂S hergestellt, um hervorragende Leistungen bei Sputteranwendungen zu erzielen. Unser hochmoderner Herstellungsprozess gewährleistet Konsistenz und Zuverlässigkeit, so dass sich diese Targets ideal für die fortschrittliche Dünnschichtabscheidung eignen. Sie weisen eine ausgezeichnete elektrische Leitfähigkeit und thermische Stabilität auf, was für anspruchsvolle industrielle Anwendungen entscheidend ist. Dieses Produkt eignet sich hervorragend für die Elektronikfertigung, die Produktion von Photovoltaikzellen und andere High-Tech-Anwendungen, die Präzision und Langlebigkeit erfordern.

Kupfer(I)-sulfid-Sputter-Target-Anwendungen

- Elektronik: Unverzichtbar für Hochleistungssputtering bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen.
- Photovoltaik: Einsatz bei der Abscheidung von Absorberschichten in Solarzellen zur Verbesserung der Energieumwandlungseffizienz.
- Oberflächenbeschichtungen: Ideal für die Entwicklung fortschrittlicher Dünnfilmbeschichtungen in Industrie und Forschung.
- Forschung und Entwicklung: Bietet ein zuverlässiges Material für die Erforschung neuer Sputter- und Dünnschichttechnologien.

Kupfer(I)-Sulfat-Target-Packung

Unsere Kupfer(I)-Sulfid-Sputter-Targets, Cu2S, werden sorgfältig verpackt, um die Unversehrtheit des Produkts während der Lagerung und des Transports zu gewährleisten. Es sind Standardverpackungsoptionen erhältlich, die auf Anfrage an die spezifischen Projektanforderungen angepasst werden können.

Häufig gestellte Fragen

F: Für welche Anwendungen sind Kupfer(I)-sulfid-Sputter-Targets am besten geeignet?
A: Sie werden häufig in der Elektronikfertigung, bei der Herstellung von Photovoltaikzellen, bei Oberflächenbeschichtungen und in der Spitzenforschung eingesetzt.

F: In welchen Formen können die Sputtertargets hergestellt werden?
A: Die Targets sind in standardmäßigen Scheibenformen erhältlich oder können kundenspezifisch angefertigt werden, um spezifische Designanforderungen zu erfüllen.

F: Wie hoch ist der Reinheitsgrad dieser Targets?
A: Die Targets werden mit einem Reinheitsgrad von ≥99% hergestellt, was hohe Leistung und gleichbleibende Ergebnisse gewährleistet.

F: Kann die Größe der Kupfer(I)-sulfid-Sputter-Targets angepasst werden?
A: Ja, kundenspezifische Größen sind erhältlich, um verschiedenen industriellen Anwendungen gerecht zu werden.

F: Wie hoch ist der Schmelzpunkt des in diesen Targets verwendeten Materials?
A: Das Material hat einen Schmelzpunkt von 1100 °C, was eine ausgezeichnete thermische Stabilität während des Betriebs gewährleistet.