ST0897 Niob-Zinnid-Zerstäubungstarget, Nb3Sn

Niob-Zinnid-Sputtertarget Beschreibung

Das Niob-Stannid-Sputtertarget, Nb3Sn, wurde für fortschrittliche Sputteranwendungen entwickelt. Die hochreine Nb₃Sn-Zusammensetzung wird unter strengen Qualitätskontrollen hergestellt und gewährleistet eine hervorragende Leistung bei der Dünnschichtabscheidung. Dieses Produkt bietet eine außergewöhnliche Zuverlässigkeit für High-Tech-Anwendungen wie die Halbleiterherstellung und die Optoelektronik. Seine genau kontrollierten Eigenschaften ermöglichen eine gleichmäßige Filmbildung und robuste Haftung und erfüllen die strengen Anforderungen moderner industrieller Prozesse.

Niob-Stannid Sputtering Target Anwendungen

- Halbleiterherstellung: Unverzichtbar für die Abscheidung hochwertiger Dünnschichten in der Mikroelektronik.
- Optoelektronik: Ideal für die Herstellung von optischen Beschichtungen und lichtemittierenden Bauteilen.
- Oberflächentechnik: Wird in fortschrittlichen Beschichtungstechniken zur Verbesserung der Verschleißfestigkeit und Leitfähigkeit eingesetzt.
- Forschung und Entwicklung: Unterstützt Versuchsaufbauten, die hochreine Sputtertargets für materialwissenschaftliche Untersuchungen erfordern.

Niob-Stannid-Sputtertarget-Packung

Unsere Nb₃Sn-Sputtertargets werden sorgfältig verpackt, um die Qualität bei Lagerung und Transport zu erhalten. Die vakuumversiegelten Verpackungen sind in kundenspezifischen Größen erhältlich, um den verschiedenen Verarbeitungsanforderungen gerecht zu werden und sicherzustellen, dass das Produkt unsere Kunden in einwandfreiem Zustand erreicht.

Häufig gestellte Fragen

F: Was ist ein Sputtertarget und wie wird es verwendet?
A: Ein Sputtertarget ist ein hochreines Material, das in Sputterbeschichtungsprozessen verwendet wird, um dünne Schichten auf verschiedenen Substraten zu erzeugen, was für Halbleiter- und Beschichtungsanwendungen unerlässlich ist.

F: Wie wirkt sich der Reinheitsgrad von Nb₃Sn auf seine Leistung aus?
A: Der hohe Reinheitsgrad (≥99 %) von Nb₃Sn gewährleistet eine minimale Verunreinigung während des Abscheidungsprozesses, was zu gleichmäßigen dünnen Schichten mit hervorragenden elektrischen und mechanischen Eigenschaften führt.

F: Kann die Form und Größe des Sputtertargets individuell angepasst werden?
A: Ja, unsere Sputtertargets sind in Scheibenform erhältlich oder können nach Maß gefertigt werden, um spezifischen Produktionsanforderungen zu entsprechen.

F: Welche Branchen profitieren am meisten von der Verwendung von Nb₃Sn-Sputtertargets?
A: Branchen wie die Halbleiterherstellung, die Optoelektronik und die Forschung an modernen Werkstoffen profitieren aufgrund der hervorragenden Materialeigenschaften und der Leistungsfähigkeit des Targets in hohem Maße.

F: Wie sollten Nb₃Sn-Sputtertargets gelagert werden, um die Qualität zu erhalten?
A: Sie sollten in einer kontrollierten Umgebung gelagert werden, idealerweise in einer vakuumversiegelten Verpackung, um Verunreinigungen und Zersetzungen vor der Verwendung zu vermeiden.