ST0894 Kalziumtitanat-Zerstäubungstarget, CaTiO3

Kalziumtitanat-Sputtertarget Beschreibung

Das Kalziumtitanat-Sputtertarget CaTiO3 wurde entwickelt, um sowohl bei HF- als auch bei DC-Sputteranwendungen außergewöhnliche Leistungen zu erbringen. Dieses Target wird mit einem Reinheitsgrad von ≥99% hergestellt und ist in Scheiben oder in kundenspezifischen Formen erhältlich, um die unterschiedlichsten industriellen Anforderungen zu erfüllen. Seine robuste Zusammensetzung gewährleistet eine stabile Sputterleistung und macht es zu einer idealen Wahl für die Dünnschichtabscheidung, die Mikroelektronik und fortschrittliche Beschichtungstechnologien. Durch den Einsatz modernster Fertigungstechniken bieten unsere Sputtertargets hohe Zuverlässigkeit und gleichbleibende Leistung in anspruchsvollen Betriebsumgebungen.

Anwendungen von Kalziumtitanat-Sputter-Targets

- Dünnschichtabscheidung: Perfekt für die Herstellung mikroelektronischer Komponenten und optischer Beschichtungen.
- Halbleiterverarbeitung: Für die Abscheidung dielektrischer und leitender Schichten.
- Display-Technologien: Ideal für Anwendungen in Flachbildschirmen und Solarzellen.
- Beschichtungsanwendungen: Bietet hochwertige Beschichtungen für verschiedene industrielle Werkzeuge und Komponenten.
- Forschung und Entwicklung: Geeignet für Versuchsaufbauten und innovative Materialstudien.

Kalziumtitanat-Sputter-Target-Packung

Unsere Kalziumtitanat-Sputtertargets werden mit größter Sorgfalt verpackt, um die Unversehrtheit des Produkts während der Lagerung und des Transports zu gewährleisten. Jedes Target ist vakuumversiegelt und sicher verpackt, um seinen ursprünglichen Zustand zu bewahren, und in Größen erhältlich, die auf Ihre spezifischen Anforderungen zugeschnitten sind.

Häufig gestellte Fragen

F: Was ist ein Sputtertarget?
A: Ein Sputtertarget ist eine Materialquelle, die in PVD-Verfahren (Physical Vapor Deposition) zur Abscheidung dünner Schichten auf Substraten durch die Sputtertechnik verwendet wird.

F: Welche Sputtering-Methoden können mit diesem Target verwendet werden?
A: Dieses Target ist sowohl mit RF- als auch mit DC-Sputterverfahren kompatibel, was eine vielseitige Anwendung der Dünnschichtabscheidung ermöglicht.

F: Wie wirkt sich der Reinheitsgrad des Calciumtitanat-Targets auf seine Leistung aus?
A: Ein hoher Reinheitsgrad (≥99%) gewährleistet eine minimale Verunreinigung während der Abscheidung, was zu einer hervorragenden Schichtqualität und einer gleichbleibenden Leistung für fortschrittliche Anwendungen führt.

F: Welche Branchen verwenden typischerweise Sputtertargets aus Calciumtitanat?
A: Branchen wie die Mikroelektronik, die Halbleiterherstellung, optische Beschichtungen und die Displaytechnologie verwenden diese Sputtertargets häufig.

F: Ist es möglich, Calciumtitanat-Sputtertargets in kundenspezifischen Größen zu erhalten?
A: Ja, die Targets sind in maßgeschneiderten Formen erhältlich, um spezifische Größen- und Anwendungsanforderungen zu erfüllen und eine optimale Integration in Ihren Produktionsprozess zu gewährleisten.