ST0888 Molybdän-Niob-Sputtertarget, Mo/Nb

Molybdän-Niob-Sputtertarget Beschreibung

Das Molybdän-Niob-Sputter-Target, Mo/Nb, ist für fortschrittliche Sputtering-Anwendungen konzipiert. Dieses Target wird mit dem Schwerpunkt auf hoher Reinheit (≥99%) und präziser Werkstofftechnik hergestellt und ist in Scheiben oder kundenspezifischen Formen erhältlich, um spezifische industrielle Anforderungen zu erfüllen. Sein robuster Schmelzpunkt von ~2296℃ und eine Dichte von 9,2 g/cm³ gewährleisten eine zuverlässige Leistung bei Hochtemperatur-Sputterprozessen. Die Einbindung von Indium als Bindungsart verbessert die Kompatibilität mit verschiedenen Abscheidungssystemen und macht es ideal für Halbleiter-, Optik- und moderne Beschichtungsanwendungen.

Anwendungen für Molybdän-Niob-Sputter-Targets

- Physikalische Gasphasenabscheidung (PVD): Unverzichtbar für die Herstellung von Dünnschichten und Beschichtungen in der Halbleiter- und Displayindustrie.
- Moderne Beschichtungen: Für die Herstellung von verschleißfesten und korrosionsbeständigen Beschichtungen für High-Tech-Geräte.
- Forschung und Entwicklung: Ideal für Versuchsaufbauten in materialwissenschaftlichen und technischen Labors.
- Elektronik: Kritische Komponente in Herstellungsprozessen für elektronische Geräte und Sensoren.

Molybdän-Niob-Sputtertarget-Verpackung

Unsere Sputtertargets werden unter kontrollierten Bedingungen sorgfältig verpackt, um eine optimale Produktintegrität während Lagerung und Transport zu gewährleisten. Maßgeschneiderte Verpackungsoptionen sind auf Anfrage erhältlich, um die sichere Lieferung dieses Hochleistungsmaterials zu gewährleisten.

Häufig gestellte Fragen

F: Was ist ein Sputtertarget?
A: Ein Sputtering-Target ist ein Material, das in PVD-Prozessen (Physical Vapor Deposition) verwendet wird, um dünne Filme und Beschichtungen auf verschiedenen Substraten zu erzeugen.

F: Wie wird die Reinheit des Mo/Nb-Sputtertargets aufrechterhalten?
A: Das Target wird unter strengen Qualitätskontrollen hergestellt, um sicherzustellen, dass es einen Reinheitsgrad von ≥99% erreicht, was für Hochpräzisionsanwendungen entscheidend ist.

F: Welche Branchen profitieren am meisten von der Verwendung dieses Sputtertargets?
A: Branchen wie die Halbleiterherstellung, die moderne Optik, die Elektronik und Forschungslabors verwenden häufig Sputtertargets für ihre Hochleistungsbeschichtungsprozesse.

F: Kann ich kundenspezifische Größen oder Formen für das Sputtering-Target bestellen?
A: Ja, das Produkt ist in Form von Scheiben erhältlich oder kann nach speziellen Kundenwünschen angefertigt werden.

F: Wie trägt der hohe Schmelzpunkt von ~2296℃ zur Leistung des Targets bei?
A: Der hohe Schmelzpunkt stellt sicher, dass das Target Hochtemperatur-Sputterprozessen standhält und eine zuverlässige und gleichbleibende Leistung bei verschiedenen Anwendungen bietet.