ST0885 Wolfram-dotiertes Indium-Oxid-Sputter-Target, IWO

Wolfram-dotiertes Indiumoxid-Sputtertarget, IWO Beschreibung

Das wolframdotierte Indiumoxid-Sputtertarget, IWO, wurde für fortschrittliche Abscheidetechniken entwickelt und bietet hohe Reinheit und anpassbare Konfigurationen. Hergestellt mit einer präzisen Mischung aus In2O3 und WO3, weist dieses Target eine ausgezeichnete thermische Stabilität zusammen mit robusten Bindungseigenschaften auf, was es ideal für anspruchsvolle Sputtering-Systeme macht.

Das Target wurde entwickelt, um die strengen Anforderungen der Halbleiterherstellung und der Dünnschichtbeschichtungsprozesse zu erfüllen, und weist einen hohen Schmelzpunkt und eine gleichbleibende Dichte auf, was eine hervorragende Leistung gewährleistet. Seine anpassbaren Formen ermöglichen darüber hinaus maßgeschneiderte Lösungen für eine Vielzahl von industriellen Anwendungen.

Wolfram-dotiertes Indiumoxid-Sputtertarget, IWO Anwendungen

- Halbleiterabscheidung: Ideal für hochwertige Dünnschichtanwendungen bei der Herstellung von Bauelementen.
- Display-Technologie: Geeignet für die Herstellung einheitlicher, leitfähiger Oxidschichten in Flachbildschirmen.
- Photovoltaik: Verbessert die Leistung und Effizienz von Solarzellen durch präzise Beschichtungsanwendungen.
- Industrielle Beschichtungen: Bietet verbesserte Oberflächeneigenschaften für Schutz- und Funktionsschichten in verschiedenen Maschinen.

Wolfram-dotiertes Indiumoxid-Sputtertarget, IWO-Verpackung

Unsere Sputtertargets werden mit kundenspezifischen Verpackungslösungen sicher verpackt, um die Produktintegrität während der Lagerung und des Transports zu gewährleisten. Zu den Optionen gehören speziell entwickelte Behälter und schützende Verpackungsmaterialien, um die Sauberkeit zu erhalten und Verunreinigungen zu vermeiden.

Häufig gestellte Fragen

F: In welchen Branchen werden wolframdotierte Indiumoxid-Sputtertargets üblicherweise eingesetzt?
A: Sie werden üblicherweise in der Halbleiterherstellung, der Displaytechnologie, der Photovoltaik und bei industriellen Beschichtungsprozessen eingesetzt.

F: Wie wird die ≥99%ige Reinheit des Targets sichergestellt?
A: Das Target unterliegt einer strengen Qualitätskontrolle, bei der fortschrittliche Reinigungstechniken und umfassende Tests während der Produktion zum Einsatz kommen.

F: Kann ich die Form des Sputtertargets individuell gestalten?
A: Ja, das Produkt ist in Form von Standardscheiben erhältlich oder kann nach Maß gefertigt werden, um spezifischen Anforderungen gerecht zu werden.

F: Welche Vorteile bietet die Wolframdotierung in diesem Sputtertarget?
A: Die Wolfram-Dotierung verbessert die elektrische Leitfähigkeit, die thermische Stabilität und die allgemeine Haltbarkeit und gewährleistet so eine hervorragende Leistung.

F: Gibt es besondere Lagerungsanforderungen für dieses Produkt?
A: Die Targets sollten in einer sauberen, trockenen Umgebung gelagert werden, in der sie möglichst wenig Verunreinigungen ausgesetzt sind, um eine optimale Leistung zu gewährleisten.