Eingestellt (Eingestellt) ST0882 Galliumoxid-Zerstäubungstargets, Ga2O3

Galliumoxid-Sputtering-Targets Beschreibung

Die Galliumoxid-Sputter-Targets, Ga2O3, werden mit größter Sorgfalt in Bezug auf Qualität und Leistung hergestellt. Entwickelt mit einer hohen Reinheit von ≥99%, sind diese Targets in verschiedenen Formen erhältlich, einschließlich Scheiben und kundenspezifischen Formen, um verschiedenen industriellen Anforderungen gerecht zu werden. Entwickelt für ausgezeichnete Zuverlässigkeit, widersteht Ga₂O₃ strengen Bedingungen, was es zu einer idealen Wahl für hochpräzise Dünnschichtabscheidung in der Halbleiterherstellung, Optoelektronik und anderen Hochtechnologiesektoren macht. Seine einzigartige Kombination aus hohem Schmelzpunkt und spezifischer Dichte gewährleistet eine hervorragende thermische Stabilität und eine zuverlässige chemische Leistung.

Galliumoxid-Sputter-Targets Anwendungen

- Halbleiterherstellung: Unverzichtbar für Dünnschichtabscheidungsprozesse in modernen Halbleitergeräten.
- Optoelektronik: Einsatz bei der Herstellung von LEDs, Laserdioden und anderen optischen Komponenten.
- Oberflächenbeschichtungen: Ideal für die Herstellung hochwertiger, gleichmäßiger Beschichtungen in modernen industriellen Anwendungen.
- Forschung und Entwicklung: Wird in Labors für materialwissenschaftliche Studien und die Innovation neuer Technologien eingesetzt.

Galliumoxid-Sputter-Targets Verpackung

Unsere Galliumoxid-Sputter-Targets werden sicher verpackt, um eine optimale Produktintegrität während der Handhabung und des Versands zu gewährleisten. Zu den Standardverpackungsoptionen gehören vakuumversiegelte Behälter, die auf die Erhaltung der hohen Reinheit und Leistung zugeschnitten sind und in verschiedenen Größen erhältlich sind, um den Kundenanforderungen gerecht zu werden.

Häufig gestellte Fragen

F: Was sind die Hauptanwendungen von Galliumoxid-Sputter-Targets?
A: Sie werden vor allem in der Halbleiterfertigung, der Optoelektronik, der Oberflächenbeschichtung und der Forschung an modernen Materialien eingesetzt.

F: Wie wirkt sich der hohe Schmelzpunkt von Ga₂O₃ auf seine Leistung aus?
A: Der hohe Schmelzpunkt gewährleistet die thermische Stabilität bei Hochenergie-Abscheidungsprozessen, was zu einer verbesserten Schichtqualität und Haltbarkeit führt.

F: Können Galliumoxid-Sputter-Targets nach Maß gefertigt werden, um spezifische industrielle Anforderungen zu erfüllen?
A: Ja, sie können als Scheiben hergestellt oder auf der Grundlage von Kundenspezifikationen auf präzise Formen und Größen zugeschnitten werden.

F: Welche Qualitätssicherungsmaßnahmen gibt es für diese Targets?
A: Die Targets werden mit einem Reinheitsgrad von ≥99% hergestellt und unterliegen strengen Qualitätskontrollverfahren, um die Einhaltung der Industrienormen zu gewährleisten.

F: Wie sollten die Galliumoxid-Sputter-Targets gelagert werden, um ihre Qualität zu erhalten?
A: Sie sollten in einer sauberen, trockenen Umgebung mit minimaler Exposition gegenüber Verunreinigungen gelagert werden, vorzugsweise in ihrer vakuumversiegelten Verpackung.