(Eingestellt) ST0510 Titan-Zirkonium (Ti/Zr) Sputtering Target

Titan-Zirkonium (Ti/Zr) Sputtering Target Beschreibung

Das Titan-Zirkonium (Ti/Zr)-Sputtertarget wurde für Hochleistungs-Dünnschichtabscheidungs- und Beschichtungsanwendungen entwickelt. Mit einer Reinheit von ≥99% hergestellt, erfüllt dieses Target die strengen Anforderungen der Halbleiterherstellung, optischer Beschichtungen und anderer fortschrittlicher industrieller Prozesse. Die anpassbaren Größenoptionen und die zuverlässige Bindung mit Indium und Elastomer gewährleisten optimale Leistung und Vielseitigkeit für verschiedene Sputtersysteme.

Titan-Zirkonium (Ti/Zr) Sputtering Target Anwendungen

- Halbleiterherstellung: Ideal für die Abscheidung von leitenden oder schützenden Dünnschichten in der Mikroelektronik.
- Optische Beschichtungen: Bietet hervorragende Eigenschaften für Antireflexions- und Hochreflexionsbeschichtungen auf optischen Komponenten.
- Dünnschichtabscheidung: Wird in fortschrittlichen Beschichtungsprozessen zur Verbesserung der Oberflächeneigenschaften von industriellen Werkzeugen und Geräten eingesetzt.
- Forschung und Entwicklung: Geeignet für experimentelle Sputtering-Prozesse und materialwissenschaftliche Studien, bei denen hochreine Targets entscheidend sind.

Titan-Zirkonium (Ti/Zr) Sputtertarget-Packung

Unser Titan-Zirkonium (Ti/Zr) Sputtering Target wird sorgfältig verpackt, um seine Qualität während des Transports zu erhalten. Jede Einheit ist sicher versiegelt und gepolstert, um die kundenspezifischen Größenanforderungen zu erfüllen und eine sichere Lieferung an Ihre Einrichtung zu gewährleisten.

Häufig gestellte Fragen

F: Wie hoch ist der Reinheitsgrad des Titan-Zirkonium-Sputter-Targets?
A: Das Target wird mit einem Reinheitsgrad von ≥99% hergestellt, was eine hohe Leistung für empfindliche Sputtering-Anwendungen gewährleistet.

F: Kann ich maßgeschneiderte Formen für das Target anfordern?
A: Ja, das Produkt ist in Form von Standardscheiben erhältlich oder kann nach Maß gefertigt werden, um spezifische Größen- und Formanforderungen zu erfüllen.

F: Welche Bindungstypen werden in diesem Sputtertarget verwendet?
A: Das Target verwendet Indium- und Elastomerbindungen, die ausgewählt wurden, um optimale Stabilität und Leistung während des Sputterprozesses zu gewährleisten.

F: Für welche Branchen ist dieses Titan-Zirkonium-Sputter-Target geeignet?
A: Es eignet sich ideal für die Halbleiterherstellung, optische Beschichtungen, die Abscheidung dünner Schichten und fortschrittliche Forschungsanwendungen.

F: Wie ist das Produkt für den Versand verpackt?
A: Das Target wird sicher vakuumversiegelt und entsprechend den kundenspezifischen Größenangaben gepolstert, um sicherzustellen, dass es in einwandfreiem Zustand ankommt.