ST0481 Rubidium (Rb) Sputtering Target

Rubidium (Rb) Sputtering Target Beschreibung

Das Rubidium (Rb) Sputtering Target ist ein Hochleistungsprodukt, das speziell für fortschrittliche Sputtering-Anwendungen entwickelt wurde. Dieses Target wird unter strengen Qualitätskontrollen hergestellt und bietet eine außergewöhnliche Reinheit und Konsistenz, die eine zuverlässige Leistung bei Dünnschichtabscheidungsprozessen gewährleistet. Seine anpassbaren Formen ermöglichen eine vielseitige Integration in verschiedene Sputtersysteme, während seine einzigartigen Bindungsoptionen mit Indium und Elastomer für verbesserte Stabilität und Verwendbarkeit sorgen. Dieses Produkt ist ideal für spezialisierte Industrie- und Forschungsanwendungen, bei denen hohe Präzision und Materialintegrität von größter Bedeutung sind.

Rubidium (Rb) Sputtering Target Anwendungen

- Dünnschichtabscheidung: Optimiert für Sputtering-Prozesse in der Halbleiter- und optischen Beschichtungsindustrie.
- Fortgeschrittene Forschung: Wird in Versuchsaufbauten verwendet, die hochreines Rubidium für materialwissenschaftliche Studien erfordern.
- Instrumentierung: Geeignet für den Einsatz in Präzisionsinstrumenten und -geräten, die auf kontrollierte Sputtering-Techniken angewiesen sind.
- Kundenspezifische Fertigung: Ideal für Anwendungen, bei denen einzigartige Scheibenabmessungen oder -formen für spezielle Zwecke erforderlich sind.

Rubidium (Rb) Sputtering Target Packing

Unsere Rubidium (Rb) Sputtering Targets werden mit äußerster Sorgfalt verpackt, um ihre hohe Reinheit und Integrität zu erhalten. Wir bieten kundenspezifische Verpackungslösungen an, um die Lager- und Transportanforderungen unserer Kunden zu erfüllen und sicherzustellen, dass das Produkt in einwandfreiem Zustand ankommt.

Häufig gestellte Fragen

F: In welchen Branchen werden typischerweise Rubidium (Rb)-Sputtertargets verwendet?
A: Sie werden häufig in der Halbleiterherstellung, bei optischen Beschichtungen, in fortschrittlichen Forschungslabors und in der Präzisionsinstrumentierung eingesetzt.

F: Können die Formen der Sputtertargets angepasst werden?
A: Ja, unsere Rubidium (Rb) Sputtering Targets sind als Standardscheiben erhältlich oder können nach Ihren speziellen Anwendungsbedürfnissen angefertigt werden.

F: Welche Qualitätsmaßnahmen gewährleisten die hohe Reinheit des Rubidium (Rb)-Targets?
A: Das Produkt wird unter strengen Qualitätskontrollprotokollen mit einer Reinheitsspezifikation von ≥99% hergestellt, um eine gleichbleibende Leistung zu gewährleisten.

F: Welche Bindungsoptionen sind für dieses Produkt verfügbar?
A: Das Rubidium (Rb) Sputtering Target ist mit Indium- und Elastomerbindungen kompatibel, um Haltbarkeit und einfache Integration in Sputtersysteme zu gewährleisten.

F: Wie sollten die verpackten Rubidium (Rb) Sputtering Targets gelagert werden?
A: Um die Qualität zu erhalten, wird empfohlen, die Targets in einer sauberen, trockenen Umgebung zu lagern und die Verpackung so zu gestalten, dass ihre Integrität während des Transports und der Lagerung erhalten bleibt.