ST0479 Zinn(IV)-sulfid (SnS2) Sputtertarget

Zinn(IV)-sulfid (SnS2)-Sputter-Target Beschreibung

Das Zinn-(IV)-Sulfid (SnS2)-Sputtertarget wurde für fortschrittliche Dünnschichtabscheidungsprozesse bei der Herstellung von Halbleitern und elektronischen Geräten entwickelt. Mit einem hohen Reinheitsgrad von ≥99% gewährleistet dieses Target eine gleichbleibende Leistung und eine zuverlässige Sputtering-Effizienz. Seine anpassbaren Formen, einschließlich Scheiben, erleichtern die Kompatibilität mit verschiedenen Sputtersystemen und Anwendungen.

Zinn(IV)-sulfid ist für seine Halbleitereigenschaften bekannt und eignet sich daher für den Einsatz in Photovoltaikzellen, Sensorvorrichtungen und anderen elektronischen Komponenten. Der hohe Schmelzpunkt von 882 °C und die optimierte Dichte von 4,5 g/cm3 tragen weiter zu seiner Stabilität und Leistung unter Betriebsbelastung bei.

Zinn(IV)-sulfid (SnS2) Sputtering Target Anwendungen

- Halbleiterherstellung: Ideal für die Abscheidung dünner Schichten in elektronischen Schaltkreisen und photovoltaischen Zellen.
- Sensorvorrichtungen: Aufgrund seiner Halbleitereigenschaften wird es in Gas- oder chemischen Sensoren verwendet.
- Optoelektronik: Wird für die Herstellung von optoelektronischen Geräten und Detektoren verwendet.
- Forschung und Entwicklung: Geeignet für Versuchsaufbauten in den Materialwissenschaften und der Nanotechnologie.

Zinn(IV)-sulfid (SnS2) Sputtertarget-Verpackung

Das Produkt wird sorgfältig verpackt, um die Sicherheit und Qualität bei Lagerung und Transport zu gewährleisten. Es ist in einer vakuumversiegelten Verpackung erhältlich, mit Optionen für Standard- oder Spezialversand je nach Kundenwunsch.

Häufig gestellte Fragen

F: Wofür wird Zinn(IV)-sulfid hauptsächlich in Sputtertargets verwendet?
A: Es wird hauptsächlich für Dünnschichtabscheidungsprozesse in Halbleiter- und optoelektronischen Anwendungen verwendet.

F: Wie wirkt sich die hohe Reinheit (≥99%) des Targets auf seine Leistung aus?
A: Der hohe Reinheitsgrad gewährleistet eine minimale Verunreinigung, was zu einer gleichmäßigen Schichtqualität und einer verbesserten Geräteleistung führt.

F: Kann die Form des Sputtertargets angepasst werden?
A: Ja, das Target ist in Form von Scheiben erhältlich und kann nach Maß gefertigt werden, um spezifische Systemanforderungen zu erfüllen.

F: Welche Bedeutung hat der Schmelzpunkt von 882 °C?
A: Der hohe Schmelzpunkt trägt zur Stabilität des Targets bei Hochtemperatur-Sputterprozessen bei und gewährleistet eine zuverlässige Langzeitleistung.

F: Wie wird das Zinn(IV)-sulfid-Sputtertarget verpackt, um seine Qualität zu erhalten?
A: Es wird in vakuumversiegelten Behältern verpackt, um es während der Lagerung und des Transports vor Verunreinigungen und Schäden zu schützen.