(Eingestellt) ST0475 Yttriumferrit (Y3Fe5O12) Sputtering-Target

Yttrium Ferrit (Y3Fe5O12) Sputtering Target Beschreibung

Das Yttrium-Ferrit (Y3Fe5O12) Sputtertarget wurde entwickelt, um Hochleistungsergebnisse in Dünnschichtabscheidungsprozessen zu liefern. Hergestellt nach höchsten Qualitätsstandards mit einem Reinheitsgrad von ≥99% ist dieses Target ideal für Anwendungen, die Präzision und Zuverlässigkeit erfordern. Es wird in Standardscheibenformaten oder kundenspezifischen Formen angeboten und eignet sich für eine breite Palette von Hochtechnologie- und Forschungsprojekten.

Yttrium-Ferrit (Y3Fe5O12) Sputtering Target Anwendungen

- Dünnschichtabscheidung: Unverzichtbar für die Herstellung gleichmäßiger und hochwertiger Schichten in der Halbleiter- und Displaytechnologie.
- Mikroelektronik: Wird bei der Herstellung integrierter Schaltungen und fortschrittlicher elektronischer Geräte verwendet.
- Optische Beschichtungen: Bietet eine zuverlässige Materialquelle für die Abscheidung von reflektierenden und antireflektierenden Beschichtungen.
- Magnetische Geräte: Entscheidend für die Herstellung von Komponenten für magnetische Speicher- und Sensoranwendungen.

Yttriumferrit (Y3Fe5O12) Sputtertarget-Verpackung

Das Produkt wird sorgfältig verpackt, um seine Unversehrtheit während des Transports zu gewährleisten. Wir bieten kundenspezifische Verpackungslösungen an, um sicherzustellen, dass das Sputtertarget unsere Kunden in perfektem Zustand und entsprechend ihren spezifischen Anforderungen erreicht.

Häufig gestellte Fragen

Q1: Was ist ein Sputtertarget?
A: Ein Sputtertarget ist ein Materialblock, der in PVD-Prozessen (Physical Vapor Deposition) verwendet wird, um dünne Schichten auf Substraten zu erzeugen, indem seine Oberfläche mit energetischen Partikeln beschossen wird.

Q2: Welche Vorteile bietet Yttriumferrit (Y3Fe5O12) bei Sputtering-Anwendungen?
A: Yttriumferrit bietet einen hohen Reinheitsgrad und eine gleichbleibende Leistung, wodurch es sich gut für Abscheidungsprozesse eignet, die eine hochwertige Filmbildung bei der Herstellung elektronischer und optischer Geräte erfordern.

F3: Kann die Form des Sputtertargets angepasst werden?
A: Ja, das Target ist in Form von Standardscheiben erhältlich oder kann kundenspezifisch angefertigt werden, um spezifische Design- und Anwendungsanforderungen zu erfüllen.

F4: Warum ist ein Reinheitsgrad von ≥99% für Sputtertargets wichtig?
A: Ein hoher Reinheitsgrad minimiert das Vorhandensein von Verunreinigungen in den dünnen Schichten und gewährleistet, dass die resultierenden Beschichtungen hervorragende elektrische, optische und strukturelle Eigenschaften aufweisen.

F5: In welchen Industriezweigen werden Yttriumferrit-Sputtertargets üblicherweise verwendet?
A: Sie werden häufig in der Mikroelektronik, bei der Herstellung optischer Geräte, in magnetischen Speichersystemen und in verschiedenen Anwendungen der modernen Materialforschung eingesetzt.