ST0440 Indium-Molybdän-Oxid (In2O3/Mo) 98/2 Gew.-% Sputtertarget

Indium-Molybdän-Oxid-Sputtertarget Beschreibung

Das Indium-Molybdän-Oxid (In2O3/Mo) 98/2 Gew.-% Sputtertarget wurde speziell für hochpräzise Sputterprozesse entwickelt. Das Target wird mit einer gleichbleibenden Zusammensetzung und Reinheit von ≥99% hergestellt und ist in Scheiben oder maßgeschneiderten Formaten für eine Vielzahl von Beschichtungssystemen erhältlich. Seine einzigartige Kombination aus Indium- und Molybdänoxid gewährleistet eine stabile Leistung und macht es zu einer zuverlässigen Wahl für fortschrittliche Beschichtungs- und Dünnschichtanwendungen in der Elektronik- und anderen High-Tech-Industrien.

Indium-Molybdän-Oxid-Sputter-Target-Anwendungen

- Mikroelektronik: Ideal für die Abscheidung von Dünnschichten in Halbleiterbauelementen und integrierten Schaltungen.
- Optische Beschichtungen: Für die Herstellung von reflektierenden und antireflektierenden Beschichtungen für optische Komponenten.
- Flachbildschirme: Wird bei der Herstellung von Displays eingesetzt, um deren Leitfähigkeit und Haltbarkeit zu verbessern.
- Solarzellen: Verbessert den Wirkungsgrad und die Leistung durch gleichmäßige Dünnschichten.
- Forschung und Entwicklung: Geeignet für Versuchsaufbauten, die hochreine Sputtertargets erfordern.

Verpackung von Indium-Molybdän-Oxid-Sputtertargets

Unsere Sputtertargets sind sicher verpackt, damit sie während des Transports in einem einwandfreien Zustand bleiben.
- Standard-Verpackung: Vakuumversiegelte Behälter zur Vermeidung von Verunreinigungen.
- Kundenspezifische Optionen: Auf die Kundenanforderungen zugeschnittene Verpackungen, die eine sichere Handhabung und Lagerung gewährleisten.

Häufig gestellte Fragen

F: Was sind die Hauptanwendungen des Indium-Molybdän-Oxid-Sputtertargets?
A: Es wird hauptsächlich für die Abscheidung von Dünnschichten in der Mikroelektronik, für optische Beschichtungen, Flachbildschirme, Solarzellen und verschiedene F&E-Anwendungen verwendet.

F: Welche Vorteile bietet der hohe Reinheitsgrad (≥99%) für Sputtering-Prozesse?
A: Der hohe Reinheitsgrad minimiert Verunreinigungen und gewährleistet gleichbleibende Schichteigenschaften, was für Präzisionsanwendungen entscheidend ist.

F: Kann ich eine kundenspezifische Form oder Größe für dieses Sputtertarget bestellen?
A: Ja, das Produkt ist in Form von Scheiben erhältlich oder kann nach Maß gefertigt werden, um spezifische Prozessanforderungen zu erfüllen.

F: Was sollte ich hinsichtlich der genannten Bindungsart (Indium, Elastomer) für dieses Target beachten?
A: Die angegebene Bindungsart gewährleistet eine zuverlässige Haftung zwischen dem Sputtertarget und seiner Trägerstruktur, die für eine gleichmäßige Abscheidung während des Sputterns unerlässlich ist.

F: Wie wird das Target aufbewahrt, um die Qualität bei Lagerung und Versand zu gewährleisten?
A: Die Targets werden vakuumversiegelt und sorgfältig verpackt, um Verunreinigungen und physische Beschädigungen zu vermeiden und ihre Hochleistungseigenschaften zu erhalten, bis sie den Endverbraucher erreichen.