ST0439 Indium-Eisen-Oxid (InFe2O4) Sputtertarget

Indium-Eisen-Oxid (InFe2O4) Sputtering Target Beschreibung

Das Indium-Eisenoxid (InFe2O4) Sputtering Target wurde für fortschrittliche Dünnschichtabscheidungsverfahren entwickelt. Es wird mit Hilfe von Hochpräzisionstechniken hergestellt, um außergewöhnliche Reinheit und Konsistenz bei der Filmbildung zu gewährleisten. Dieses Target eignet sich ideal für Anwendungen in der Halbleiterherstellung, für Flachbildschirme und Sensorgeräte. Sein maßgeschneidertes Design ermöglicht Flexibilität bei der Größe und gewährleistet die Kompatibilität mit verschiedenen Sputtering-Systemen und Prozessanforderungen.

Indium-Eisen-Oxid (InFe2O4) Sputtering Target Anwendungen

- Halbleiterbauelemente: Ermöglicht hochwertige Dünnschichtabscheidung für integrierte Schaltungen und mikroelektronische Komponenten.
- Display-Technologien: Wird bei der Herstellung von Flachbildschirmen und Touchscreens verwendet.
- Sensor-Produktion: Entscheidend für die Herstellung empfindlicher Erfassungselemente in verschiedenen Sensoranwendungen.
- Forschung und Entwicklung: Ideal für Versuchsaufbauten, die hochreine Sputtertargets für neuartige Materialuntersuchungen erfordern.

Indium-Eisen-Oxid (InFe2O4) Sputtertarget-Verpackung

Unsere Sputtertargets werden sorgfältig verpackt, um ihre Integrität und Reinheit während der Lagerung und des Transports zu erhalten. Kundenspezifische Verpackungslösungen sind auf Anfrage erhältlich, um spezifische Versand- und Handhabungsanforderungen zu erfüllen.

Häufig gestellte Fragen

F: Welche Branchen profitieren am meisten von der Verwendung von InFe2O4-Sputtertargets?
A: Zu den wichtigsten Industriezweigen gehören die Halbleiterherstellung, die Produktion von Flachbildschirmen, die Sensortechnologie und die Forschung im Bereich fortschrittlicher Materialien.

F: Wie wird die hohe Reinheit (≥99%) während der Produktion aufrechterhalten?
A: Die hohe Reinheit wird durch strenge Qualitätskontrollverfahren und fortschrittliche Fertigungstechniken erreicht, die Verunreinigungen minimieren.

F: Kann das Target für bestimmte Sputteranlagen angepasst werden?
A: Ja, das Target ist in anpassbaren Größen erhältlich, um die Kompatibilität mit verschiedenen Sputtersystemen zu gewährleisten.

F: Für welche Anwendungen wird ein Sputtertarget aus InFe2O4 verwendet?
A: Es wird häufig für die Abscheidung von Dünnschichten für elektronische Bauteile, optische Beschichtungen und präzise Sensorelemente verwendet.

F: Wie sollte das Sputtertarget gelagert werden, um seine Qualität zu erhalten?
A: Es wird empfohlen, das Target in einer sauberen, trockenen Umgebung mit kontrollierter Temperatur und Luftfeuchtigkeit zu lagern, wobei die mitgelieferten vakuumversiegelten oder kundenspezifischen Verpackungen verwendet werden können.