ST0436 Europiumtitanat (EuTiO3) Sputtertarget

Europiumtitanat (EuTiO3) Sputtering Target Beschreibung

Das Europiumtitanat (EuTiO3) Sputtering Target wurde speziell für Präzisions-Dünnschichtabscheidungsprozesse entwickelt. Mit einer Reinheit von ≥99% ist dieses Target so konzipiert, dass es bei Anwendungen, die eine außergewöhnliche Gleichmäßigkeit und strukturelle Integrität erfordern, eine gleichbleibende Leistung bietet. Europiumtitanat ist für seine einzigartigen elektronischen und magnetischen Eigenschaften bekannt und wird in der Spitzenforschung und in der Industrie weithin eingesetzt, wo es zu Innovationen bei Quantenmaterialien, hochdielektrischen Schichten und optoelektronischen Geräten beiträgt.

Europiumtitanat (EuTiO3) Sputtering Target Anwendungen

- Mikroelektronik: Ideal für die Herstellung von Hochleistungs-Dünnschichten, die in Halbleiterbauelementen und integrierten Schaltungen verwendet werden.
- Optoelektronik: Aufgrund seiner ausgeprägten Lumineszenzeigenschaften wird es bei der Herstellung von lichtemittierenden Bauteilen und Photodetektoren verwendet.
- Energiesektor: Einsatz bei der Entwicklung von katalytischen und funktionellen Beschichtungen für Energieumwandlungs- und -speichersysteme.
- Fortgeschrittene Forschung: Ermöglicht die Untersuchung von komplexen Oxidmaterialien und Quantenphänomenen in akademischen und industriellen Labors.

Europiumtitanat (EuTiO3) Sputtertarget-Packung

Unsere Sputtertargets aus Europiumtitanat werden mit äußerster Sorgfalt behandelt, um sicherzustellen, dass die höchste Qualität von der Produktion bis zur Endanwendung erhalten bleibt. Sie werden sicher in speziell angefertigten Behältern verpackt, um Verunreinigungen und mechanische Beschädigungen während des Transports zu vermeiden. Spezifische Verpackungsoptionen sind je nach Kundenanforderung erhältlich.

Häufig gestellte Fragen

F: Für welche Anwendungen ist das Europiumtitanat-Sputter-Target am besten geeignet?
A: Es ist ideal für die Abscheidung von Dünnschichten in der Mikroelektronik, Optoelektronik, in Energiegeräten und in der modernen Materialforschung.

F: Wie wird die Reinheit des Sputtertargets aus Europiumtitanat sichergestellt?
A: Unsere Targets werden unter strengen Qualitätskontrollmaßnahmen hergestellt und erreichen durch fortschrittliche Verarbeitungstechniken einen Reinheitsgrad von ≥99%.

F: Sind für dieses Sputtertarget auch kundenspezifische Formen und Größen erhältlich?
A: Ja, die Sputtertargets können auf spezifische Formen wie Scheiben oder andere Designanforderungen nach Kundenspezifikation angepasst werden.

F: Welche besonderen Vorsichtsmaßnahmen sind bei der Verwendung von Sputtertargets zu beachten?
A: Die ordnungsgemäße Handhabung und die Einhaltung der empfohlenen Einstellungen des Sputtersystems sind entscheidend. Regelmäßige Wartung und Reinigung der Targeteinrichtung tragen dazu bei, langfristige Stabilität und Leistung zu gewährleisten.

F: In welchen Branchen werden Sputtertargets aus Europiumtitanat üblicherweise verwendet?
A: Branchen wie die Halbleiterherstellung, die Displaytechnologie, die Photovoltaik und die akademische Forschung verwenden diese Targets häufig aufgrund ihrer hervorragenden Abscheidungseigenschaften.