(Eingestellt) ST0430 Wismut-Lutetium-Eisen-Gallat-Sputtering-Target

Wismut-Lutetium-Eisengallat-Sputtertarget Beschreibung

Das Bismuth Lutetium Iron Gallate Sputtering Target ist ein hochentwickeltes Material, das für hocheffiziente Sputtering-Prozesse entwickelt wurde. Dieses Sputtering-Target wird unter strengen Qualitätskontrollen hergestellt, um einen Reinheitsgrad von ≥99% zu garantieren, und ist in Standard-Scheibenformen erhältlich oder kann kundenspezifisch hergestellt werden, um spezifische Anwendungsanforderungen zu erfüllen. Es wurde entwickelt, um die gleichmäßige Abscheidung von Dünnschichten in High-Tech-Fertigungsumgebungen zu erleichtern und eine gleichbleibende Leistung auch unter anspruchsvollen Bedingungen zu gewährleisten.

Bismut-Lutetium-Eisen-Gallat-Sputter-Target Anwendungen

- Elektronikfertigung: Unverzichtbar für die Abscheidung gleichmäßiger Schichten bei der Herstellung von Halbleitern und integrierten Schaltkreisen.
- Display-Technologie: Für die Herstellung von hochwertigen Bildschirmen und visuellen Geräten.
- Solarzellen: Erleichtert die Herstellung von Dünnschichten für effiziente photovoltaische Geräte.
- Sensor-Fertigung: Ermöglicht präzise Schichtungen, die für die Herstellung verschiedener Sensoren erforderlich sind.

Wismut-Lutetium-Eisen-Gallat Sputtering Target Packing

Unsere Bismut-Lutetium-Eisen-Gallat-Sputter-Targets werden sicher verpackt, um ihre Unversehrtheit während des Transports zu gewährleisten. In der Regel werden die Targets in Schutzhüllen geliefert, die auf ihre individuelle Form und Größe zugeschnitten sind, um sicherzustellen, dass sie den Kunden in makellosem Zustand erreichen.

Häufig gestellte Fragen

F: Was macht Bismut-Lutetium-Eisen-Gallat zu einem idealen Material für Sputtertargets?
A: Seine hohe Reinheit (≥99%) und robuste Zusammensetzung ermöglichen die Bildung konsistenter, gleichmäßiger dünner Schichten, die für fortschrittliche Fertigungsanwendungen unerlässlich sind.

F: Wie wird die Reinheit des Sputtertargets überprüft?
A: Während der Herstellung werden strenge Qualitätskontrollverfahren und fortschrittliche Analysetechniken eingesetzt, um sicherzustellen, dass der Reinheitsgrad konstant bei 99 % oder darüber liegt.

F: Kann das Bismut-Lutetium-Eisen-Gallat-Sputter-Target kundenspezifisch angefertigt werden?
A: Ja, das Target ist in Standard-Scheibenformaten erhältlich oder kann kundenspezifisch gefertigt werden, um spezifische Größen- und Formanforderungen für verschiedene Anwendungen zu erfüllen.

F: In welchen Branchen wird dieses Sputtering-Target typischerweise verwendet?
A: Aufgrund seiner zuverlässigen Leistung und hochwertigen Dünnschichtabscheidung wird es häufig in der Elektronikfertigung, der Displaytechnologie, der Solarzellenproduktion und der Sensorherstellung eingesetzt.

F: Wie ist das Target verpackt, um Schäden beim Transport zu vermeiden?
A: Die Targets sind sicher in Schutzhüllen verpackt, die mit kundenspezifischen Lösungen entwickelt wurden, um die Unversehrtheit des Produkts während des Transports zu gewährleisten.